[实用新型]一种磁粉探伤和退磁一体机有效

专利信息
申请号: 201320547303.6 申请日: 2013-09-04
公开(公告)号: CN203422349U 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 张利丽;乐金朝;唐子贵;殷翔芝;乔冠娣;顾耀龙 申请(专利权)人: 江苏纽克光谱科技有限公司
主分类号: G01N27/84 分类号: G01N27/84
代理公司: 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 代理人: 黄为
地址: 224300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 探伤 退磁 一体机
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及磁粉探伤领域,特别是涉及一种磁粉探伤和退磁一体机。

背景技术

磁粉探伤利用工件缺陷处的漏磁场与磁粉的相互作用,它利用了钢铁制品表面和近表面缺陷(如裂纹,夹渣,发纹等)磁导率和钢铁磁导率的差异,磁化后这些材料不连续处的磁场将发生崎变,形成部分磁通泄漏处工件表面产生了漏磁场,从而吸引磁粉形成缺陷处的磁粉堆积——磁痕,在适当的光照条件下,显现出缺陷位置和形状,对这些磁粉的堆积加以观察和解释,就实现了磁粉探伤。

通常工件在进行磁粉探伤后还需要进行退磁处理,否则工件在工作或再次机加工时,会吸引铁屑影响部件的运转或者对电子仪器等产生磁场干扰,而现有的退磁,往往需要在磁粉探伤后依靠专门的退磁机进行退磁,此种方式工作虽然退磁比较干净,但工作效率不高;还有一种方式是利用磁粉探伤机本身的退磁功能,退磁效果不是很好,工件残留磁场。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种磁粉探伤和退磁一体机,能够实现磁粉探伤与退磁在一条导轨上完成,提高了工作效率。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种磁粉探伤机和退磁一体机,包括:工作台、机架和底座,其特征在于,所述工作台上设置第一导轨,底座上设置第二导轨,工作台的一侧设置有控制箱,工作台的中部设置有移动台,移动台正对控制箱的一侧设置有磁探头,控制箱正对移动台的一侧也设置有磁探头,所述移动台和控制箱之间还设置有工件放置台,工件放置台安装于第一导轨上并沿着第一导轨移动,移动台的下方设置升降杆,移动台沿着升降杆上下移动,升降杆的底部设置有滑块,滑块沿着第二导轨移动,所述工作台上远离控制箱的另一侧还设置有退磁线圈。

优选的,所述工作台正对移动台的位置还开有升降口。

优选的,所述第二导轨远离机架的一侧还设置有限位块。

本实用新型的有益效果是:本实用新型将磁粉探伤与退磁工序设置于同一个工作台上完成,工件在磁粉探伤后沿着导轨移动到退磁区,减少了人工搬运的时间,提高了工作效率。

附图说明

图1是本实用新型一种磁粉探伤机和退磁一体机一较佳实施例的结构示意图;

附图中各部件的标记如下:1、工作台,2、机架,3、底座,4、控制箱,5、移动台,6、磁探头,7、工件放置台,8、第一导轨,9、升降口,10、第二导轨,11、滑块,12、升降杆,13、退磁线圈,14、限位块。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参阅图1,本实用新型实施例包括:

一种磁粉探伤机和退磁一体机,包括:工作台1、机架2和底座3,所述工作台1上设置第一导轨8,底座3上设置第二导轨10,工作台1的一侧设置有控制箱4,工作台1的中部设置有移动台5,移动台5正对控制箱4的一侧设置有磁探头6,控制箱4正对移动台5的一侧也设置有磁探头6,所述移动台5和控制箱4之间还设置有工件放置台7,工件放置台7安装于第一导轨8上并沿着第一导轨8移动,移动台5的下方设置升降杆12,移动台5沿着升降杆12上下移动,升降杆12的底部设置有滑块11,滑块11沿着第二导轨10移动,所述工作台1上远离控制箱4的另一侧还设置有退磁线圈13,本实用新型的工作原理为,待测工件放置于工件放置台7,移动台5移动,使得磁探头6的位置对准被测工件,然后进行磁粉探伤测试,测试结束后移动台5后撤,移动台5从升降口9下降至工作台1以下,此时,工件放置台7在第一导轨8移动至退磁线圈13处进行退磁,移动台5复位,准备下一个工件磁粉探伤,如此完成一个循环。

进一步的,所述工作台1正对移动台5的位置还开有升降口9,在工件完成磁粉探伤后,移动台5下降,通过升降口9,到达工作台1的下方,此时,探伤后的工件沿着第一导轨8移动到退磁线圈13处进行消磁。

进一步的,所述第二导轨10远离机架2的一侧还设置有限位块14,防止滑块11移出第二导轨10。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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