[实用新型]刻划装置有效
申请号: | 201320542132.8 | 申请日: | 2013-09-02 |
公开(公告)号: | CN203445140U | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 陶尚辉;谢建;王振华;杨凯;高云峰 | 申请(专利权)人: | 深圳市大族激光科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518055 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 刻划 装置 | ||
1.一种刻划装置,其特征在于,包括:
固定板;
第一滑动限位装置,所述第一滑动限位装置至少一个、且固定在所述固定板上;
第一导柱,所述第一导柱与所述第一滑动限位装置滑动连接;
与所述第一导柱相连、用于驱动所述第一导柱在所述第一滑动限位装置上滑动的驱动装置;
其中,所述第一导柱的一端固定有锥刀套,所述锥刀套上设置有机械刻划头。
2.根据权利要求1所述的刻划装置,其特征在于,所述刻划装置还包括中间块;
所述驱动装置固定于所述固定板上,所述驱动装置的驱动轴与所述中间块一端固定连接,所述中间块的另一端与所述第一导柱固定连接;所述驱动装置的驱动方向与所述第一导柱平行。
3.根据权利要求2所述的刻划装置,其特征在于,所述刻划装置还包括固定于所述固定板上的第二导柱,所述第二导柱位于所述第一导柱的一侧且平行于所述第一导柱;
所述中间块上设有与所述第二导柱可相对滑动的第二滑动限位装置。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的刻划装置,其特征在于,所述固定板包括底板和位于所述底板两侧且同向的柱体;
所述第一滑动限位装置为两个,且同轴设置在两个柱体上;
所述第一导柱与所述第一滑动限位装置同轴连接。
5.根据权利要求3所述的刻划装置,其特征在于,第一、二滑动限位装置为线性滚珠导轨。
6.根据权利要求5所述的刻划装置,其特征在于,所述线性滚珠导轨的两端分别设置有挡圈。
7.根据权利要求1所述的刻划装置,其特征在于,所述驱动装置为气缸。
8.根据权利要求1所述的刻划装置,其特征在于,所述刻划装置还包括一提供恒压力气压的气压输出装置。
9.根据权利要求1-3任意一项所述的刻划装置,其特征在于,所述刻划装置上设有外罩。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市大族激光科技股份有限公司,未经深圳市大族激光科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320542132.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种光源的聚光结构以及聚光型COB光源
- 下一篇:框架引线键合治具
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的