[实用新型]一种新型陶瓷活塞杆表面处理装置有效

专利信息
申请号: 201320532295.8 申请日: 2013-08-29
公开(公告)号: CN203393042U 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 廖文祥 申请(专利权)人: 廖文祥
主分类号: C04B41/80 分类号: C04B41/80
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362502 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 陶瓷 活塞杆 表面 处理 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种新型陶瓷活塞杆表面处理装置。

背景技术

陶瓷表面处理是陶瓷喷涂工艺中很重要的环节,而现有的活塞杆陶瓷表面处理是通过人工将处理液直接涂抹在活塞杆的陶瓷表面上,这种做法,操作不方便,对滴淌下来的处理液也不便回收,造成了处理液的浪费,因而不仅陶瓷表面处理质量较差,而且影响了活塞杆的防腐性能。

以往固定陶瓷活塞杆的支撑圈需要将陶瓷活塞杆的外圈面包住一部分,这样包住之后才可以将陶瓷活塞杆固定安装在支撑圈上,这种安装结构会减小陶瓷活塞杆的处理表面积。

实用新型内容

针对上述问题,本实用新型提出一种新型陶瓷活塞杆表面处理装置,使陶瓷活塞杆可以通过两个端面接触固定在缸体内,增加陶瓷活塞杆的处理面积。

为解决此技术问题,本实用新型采取以下方案:一种新型陶瓷活塞杆表面处理装置,包括中空的缸体,所述缸体的两端分别设置有用于密封的左端盖和右端盖,缸体的上端开设有安装口,位于安装口旁的所述缸体上设置有密封盖;

所述缸体的内腔底面上设置有沿所述缸体长度方向设置的滑槽,所述滑槽内设置有可移动的左顶尖和右顶尖,所述位于左顶尖和右顶尖之间的滑槽内设置有拉伸弹簧,拉伸弹簧的两端分别连接左顶尖和右顶尖,所述左端盖上密封连接有用于控制左顶尖在滑槽上位移的左调节杆,右端盖上密封连接有用于控制右顶尖在滑槽上位移的右调节杆。

进一步的,所述滑槽分别与左顶尖和右顶尖之间的连接结构为,所述滑槽为上窄下宽形状,在滑槽内两侧形成卡口,所述左顶尖和右顶尖的两侧分别形成有与两侧卡口相配合的用于将左顶尖和右顶尖限定在滑槽上的卡凸。

进一步的,所述的左调节杆与左端盖之间为螺纹连接,所述的右调节杆与右端盖之间为螺纹连接。

进一步的,所述左顶尖与左调节杆相接触的端面上设置有压台,所述右顶尖与右调节杆相接触的端面上也设置有压台。

通过采用前述技术方案,本实用新型的有益效果是:陶瓷活塞杆可以经安装口便可以固定在两顶尖上,并且紧通过两端面接触固定,同时通过两侧左调节杆和右调节杆顶紧两顶尖,有效固定住陶瓷活塞杆。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

其中,1、缸体,2、滑槽,3、左顶尖,4、右顶尖,5、拉伸弹簧,6、密封盖,7、左调节杆,8、右调节杆。

具体实施方式

现结合附图和具体实施例对本实用新型进一步说明。

参考图1本实施例公开一种新型陶瓷活塞杆表面处理装置,包括中空的缸体1,缸体1的两端分别设置有用于密封的左端盖和右端盖,缸体1的上端开设有安装口,位于安装口旁的所述缸体1上设置有密封盖6。

缸体1的内腔底面上设置有沿缸体1长度方向设置的滑槽2,滑槽2内设置有可移动的左顶尖3和右顶尖4,位于左顶尖3和右顶尖4之间的滑槽2内设置有拉伸弹簧5,拉伸弹簧5的两端分别连接左顶尖3和右顶尖4,左端盖上密封连接有用于控制左顶尖3在滑槽2上位移的左调节杆7,右端盖上密封连接有用于控制右顶尖4在滑槽2上位移的右调节杆8,左调节杆7与左端盖之间为螺纹连接,右调节杆8与右端盖之间为螺纹连接。

滑槽2分别与左顶尖3和右顶尖4之间的连接结构为,滑槽2为上窄下宽形状,在滑槽2内两侧形成卡口,左顶尖3和右顶尖4的两侧分别形成有与两侧卡口相配合的用于将左顶尖3和右顶尖4限定在滑槽2上的卡凸。这样可以将左顶尖3和右顶尖4限定缸体1的内腔底面上。

左顶尖3与左调节杆7相接触的端面上设置有压台,右顶尖4与右调节杆8相接触的端面上也设置有压台。通过压台可以避免左调节杆7和右调节杆8直接作用在左顶尖3和右顶尖4上,避免长时间使用时候使用在左顶尖3和右顶尖4的表面上形成磨损。

工作时,将陶瓷活塞杆从安装口装在左顶尖3和右顶尖4上,左顶尖3和右顶尖4之间的拉伸弹簧5可以对安装的陶瓷活塞杆形成一个初步定位,然后分别转动左调节杆7和右调节杆8,使两调节杆分别经左顶尖3和右顶尖4顶紧陶瓷活塞杆,这样便可以从安装口中加入处理液,最后盖上密封盖6进行处理。由于陶瓷活塞杆是通过两侧的端面形成定位安装的,因此陶瓷活塞杆的外圈表面积可以得到充分的处理,确保处理表面积以及处理的质量。

需要说明的是,左顶尖3和右顶尖4在静止时,两者之间的距离小于所需安装的陶瓷活塞杆的长度。

以上所记载,仅为利用本创作技术内容的实施例,任何熟悉本项技艺者运用本创作所做的修饰、变化,皆属本创作主张的专利范围,而不限于实施例所揭示者。

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