[实用新型]真空镀膜机平板式发射板结构有效
申请号: | 201320531813.4 | 申请日: | 2013-08-29 |
公开(公告)号: | CN203440436U | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 夏伟;孙海澄;李龙哲;刘强;金虎 | 申请(专利权)人: | 上海哈呐机电设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200540 上海市金*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空镀膜 平板 发射 板结 | ||
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜机平板式发射板结构,属于真空镀膜机技术领域。
背景技术
传统真空镀膜机都采用棒式结构,其发射面积小,保护膜效果差,产品附着力及耐碱性差,产品不合格率高,发射棒没有保护罩,极易受污染。
发明内容
针对上述问题,本实用新型要解决的技术问题是提供真空镀膜机平板式发射板结构。
本实用新型的真空镀膜机平板式发射板结构,它包含真空室腔体、发射板、保护罩和电极,所述发射板和保护罩上设有相对应的固定孔,所述发射板上通过绝缘陶瓷钉和插针固定在保护罩上,所述绝缘陶瓷钉末端设有插孔,绝缘陶瓷钉穿过发射板固定孔及保护罩固定孔后,在其末端插孔上插入插针固定,所述真空室腔体上设有调节板,所述保护罩固定在调节板上,所述电极的螺杆端穿过发射板,并用调节螺母固定。
本实用新型的有益效果:本实用新型采用板式发射,板式的发射因面积增加而产生的保护膜效果更佳,即大大增强附着力及耐碱性;在同样功率下能发射出更大电压,在同样的条件下能得到更厚的膜;在等离子轰击工艺下可获得更好的附着力;防止污染,可按照不同尺寸的产品调节发射板与产品直接的距离,使其能得到更好的轰击工艺效果。
附图说明
为了易于说明,本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。
图1为本实用新型的整体结构示意图。
图2为本实用新型的发射板和保护罩的组合结构示意图。
具体实施方式
如图1、图2所示,本具体实施方式采用以下技术方案:真空镀膜机平板式发射板结构,它包含真空室腔体1、发射板2、保护罩3和电极4,所述发射板2和保护罩3上设有相对应的固定孔,所述发射板2上通过绝缘陶瓷钉5和插针6固定在保护罩3上,所述绝缘陶瓷钉5末端设有插孔,绝缘陶瓷钉5穿过发射板固定孔及保护罩固定孔后,在其末端插孔上插入插针6固定,所述真空室腔体1上设有调节板7,所述保护罩3固定在调节板7上,所述电极4的螺杆端穿过发射板2,并用调节螺母8固定。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。
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