[实用新型]基于光子晶体的RF-MEMS开关有效
申请号: | 201320529312.2 | 申请日: | 2013-08-28 |
公开(公告)号: | CN203398032U | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 宋明歆;吴蕊 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨理工大学 |
主分类号: | H01H59/00 | 分类号: | H01H59/00 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 张宏威 |
地址: | 150080 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 光子 晶体 rf mems 开关 | ||
1.基于光子晶体的RF-MEMS开关,其特征在于,它包括硅衬底(1)、二氧化硅层(2)、两个Al电极(3)、介质层(4)、金属电极(5)和传输线(6);硅衬底(1)位于最下端,二氧化硅层(2)完全覆盖在硅衬底(1)的上表面上;二氧化硅层(2)的上表面的两侧分别覆有一个Al电极(3);金属电极(5)为n型,金属电极(5)的两端安装在Al电极(3)的上表面上;介质层(4)覆在二氧化硅层(2)的上表面的中间,介质层(4)与二氧化硅层(2)的宽相同,介质层(4)与二氧化硅层(2)的中心重合;二氧化硅层(2)和介质层(4)的中间覆有传输线(6);
所述介质层(4)为光子晶体结构,该光子晶体结构包括Si3N4介质层和SiO2介质层,并且Si3N4介质层和SiO2介质层并行交替排列。
2.根据权利要求1所述基于光子晶体的RF-MEMS开关,其特征在于,Si3N4介质层和SiO2介质层并行交替排列,所述Si3N4介质层的宽度为25μm。
3.根据权利要求1所述基于光子晶体的RF-MEMS开关,其特征在于,Si3N4介质层和SiO2介质层并行交替排列,所述SiO2介质层的宽度为25μm。
4.根据权利要求1所述基于光子晶体的RF-MEMS开关,其特征在于,所述金属电极(5)为n型,两端为Al柱,上面悬挂的Al梁能够沿着Al柱上下移动。
5.根据权利要求1所述基于光子晶体的RF-MEMS开关,其特征在于,所述传输线(6)为CPW共面波导。
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