[实用新型]触控屏

说明书

技术领域

本实用新型属于触控屏领域，尤其是涉及一种使用PVD（物理气相沉积）遮光镀层的触控屏。 

背景技术

目前，市场上手机面板玻璃遮光层都是采用丝网印刷的技术来实现的，油墨中调配一定比例的硬化剂，通过菲林，将油墨均匀印在玻璃表面，再烘烤使油墨硬化，来实现玻璃非显示区域的遮光效果。但随着手机触控屏的广泛流行，丝网印刷的技术愈显示出他的的局限性。采用丝网印刷的玻璃涂层厚度只能控制在微米级，而且涂层厚度的均匀性也很难控制，单层油墨厚度通常在7μm，厚度公差±1μm，通常需要印两层；这使得在后工序粘合薄膜类辅助材料（ITO膜、防爆膜、AR膜、防炫光膜等）时由于高度的差异，容易导致粘合不良，如气泡，台阶空隙（图1所示）。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种使用PVD遮光镀层的触控屏，解决现有技术存在的缺陷。 

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为： 

一种触控屏，所述触控屏的层叠结构为透明基材，层叠于透明基材上的遮光镀层，层叠于遮光镀层上的有触控功能的玻璃或胶片。

进一步的改进是：所述的透明基材为透明玻璃或蓝宝石透明玻璃。 

进一步的改进是：所述的遮光镀层为导电系数较低的金属材料与半导体材料硅的氧化物或氮化物通过PVD形成的遮光镀层，所述金属材料为Sn、Zn、Cr中的一种。 

进一步的改进是：所述的遮光镀层厚度为300nm-800nm。 

镀层采用导电系数较低的金属材料与半导体材料硅的氧化物或氮化物交替形成，低导电系数金属为Sn、Zn、Cr中的一种。 

镀层颜色可以是黑色，也可以是其它任何颜色，特性为不透明不导电。 

本实用新型所述的触控屏的遮光镀层采用PVD形成遮光镀层，可以有效的改善视窗边缘气泡、台阶间隙等问题。 

附图说明

图1所示为传统工艺的触控屏结构剖面图； 

图2所示为本实用新型所述触控屏结构剖面图。

附图标注 

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步详细说明。 

如图2所示的触控屏，层叠结构为透明玻璃或蓝宝石透明玻璃层的透明基材层1，叠于透明基材层1上的采用PVD形成的遮光镀层5，层叠于遮光镀层5上的有触控功能的玻璃或胶片3。 

镀层采用导电系数较低的金属材料与半导体材料硅的氧化物或氮化物交替形成，低导电系数金属为Sn、Zn、Cr中的一种。 

通过溅射式PVD真空镀膜机，用一种导电系数小的T靶材和一种S靶材，按一定比例产替镀膜，得到不透明不导电的PVD遮光层。 

溅射式PVD真空镀膜机原理： 在真空状态下，在靶材背面施加负极高压电源，使充至靶材表面的氩气（Ar）产生辉光放电，从而电离氩气，在靶材表面形成等离子体，利用负极（靶材）对等离子体中正电荷粒子（氩气原子核）的吸引力，使带正电荷的原子核高速撞击靶材表面，靶材表面的分子、原子等得到充分的动能后溢出，飞到在靶材前高速旋转的基板上而形成膜，当基板转至机器后侧时，基板上的膜在射频（Radio Freqency ） 激进源（Radical source）的作用下，与气体（主要Oxygen和Nitrogen）发生反应，通过调节射频激进源所充入的气体而得到想要的单质膜、氧化膜或氮化膜。 

在膜层构成上选用可见光区域高消光系数的单质金属T，其导电系数较小，其与S靶材的氧化物或氮化材料叠加，优化厚度，得到黑色或其它颜色的非镀膜面。 

采用PVD镀膜工艺能将厚度控制在0.7μm以下，厚度公差为±0.02μm，与现有丝网印刷技术相比，所得镀膜厚度明显降低，PVD遮光层的厚度只有传统丝印层的三十分之一，并且有效的减少厚度差异，避免了后工序粘合薄膜类辅助材料时由于高度差导致的气泡、空隙4等粘合不良问题。 

根据数据显示，将PVD遮光层应用于触控屏后，贴合工程气泡不良率下降了15.3%。 

以在玻璃上镀黑色遮光层为例，在视觉上，该遮蔽层的黑色效果与丝网印刷黑油具有相同的视觉效果，在可见光范围内光线的透过率为零。 

用CIE1976 Lab均匀色度空间来描述 

采用丝网印刷黑色遮光层的，其颜色测量为：                        L、26±1   a、0±1  b、0±1