[实用新型]电子光学系统的装配工装有效

专利信息
申请号: 201320494211.6 申请日: 2013-08-14
公开(公告)号: CN203459849U 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: 吴华夏;邓清东;宋田英;贺兆昌;卞磊;陈爱民;张丽;孙龙飞 申请(专利权)人: 安徽华东光电技术研究所
主分类号: B23K37/04 分类号: B23K37/04
代理公司: 安徽汇朴律师事务所 34116 代理人: 胡敏
地址: 230001 安徽省芜*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子光学 系统 装配 工装
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种微波器件用工装,尤其涉及的是一种电子光学系统的装配工装。

背景技术

微波器件是现代武器装备中雷达、电子战、通信及制导系统的核心器件,其电子光学系统的结构、尺寸设计都是非常严谨的,在进行电子光学系统的装配时,必须严格保证各零部件的尺寸位置关系,以确保微波器件的良好性能。电子光学系统的装配质量,除了和装配人员的操作水平有关,更为关键的在于装配工装的巧妙设计和可操作性。装配工装有两个功能,一个是保证有待装配的各零部件安装的精确位置,另一个是将在工装上安装到位的各零部件进行固定,即进行定位,以防止在后续的各种焊接过程中,各零部件的相对位置产生偏移。对于普通的结构,常规的工装设计即可满足要求,但对于一些结构比较复杂、特殊的电子光学系统,常规的工装无法对其进行很好的定位,以致装配精度达不到要求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供了一种电子光学系统的装配工装,可以提高装配精度,对工件实现良好定位。

本实用新型是通过以下技术方案实现的,本实用新型包括基座和螺帽,基座包括一体成型的上部、中部和下部,下部的外径大于上部的外径,螺帽套设在基座的上部;所述基座的上部开设与待装工件配合使用的内孔台阶,基座的上部的外缘上均匀设有至少两个细槽,所述细槽沿基座的径向设置;基座的上部设有外螺纹,外螺纹位置之上设有第一倾斜台阶;所述螺帽的内侧设有与所述外螺纹配合使用的内螺纹,内螺纹位置之上设有第二倾斜台阶。

所述细槽的宽度为0.05~0.2mm。通过细槽的设计可以提高装配的精度。

作为本实用新型的优选方式之一,所述细槽有四个,细槽的宽度为0.1mm。

为了提高装配精度,所述第二倾斜台阶的倾斜角小于第一倾斜台阶的倾斜角。

作为本实用新型的优选方式之一,所述第二倾斜台阶的倾斜角比第一倾斜台阶的倾斜角小1°。

为了便于装配,所述螺帽的外侧设有滚花。

为了加强工装的收缩性,所述基座的上部外径大于中部的外径。

所述基座的上部、中部和下部中设有贯穿通孔。在不影响对待装工件进行安装定位的情况下,使得工装更加轻便。

本实用新型相比现有技术具有以下优点:本实用新型制作简单,成本低,使用灵活方便,对将零部件进行定位,重复性和一致性好,满足一些结构比较复杂、特殊的电子光学系统的装配需求,保证装配精度,保障微波器件的良好性能;本工装也适用于其他领域的装配。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是基座的结构示意图;

图3是图2的俯视图;

图4是螺帽的结构示意图。

具体实施方式

下面对本实用新型的实施例作详细说明,本实施例在以本实用新型技术方案为前提下进行实施,给出了详细的实施方式和具体的操作过程,但本实用新型的保护范围不限于下述的实施例。

如图1~4所示,本实施例包括基座1和螺帽2,基座1包括一体成型的上部11、中部12和下部13,为保证操作稳定性,下部13的外径大于上部11的外径,基座1的上部11外径大于中部12的外径,螺帽2套设在基座1的上部11;所述基座1的上部11开设与待装工件3配合使用的内孔台阶14,基座1的上部11的外缘上均匀设有四个细槽15,细槽15的宽度为0.1mm,所述细槽15沿基座1的径向设置;基座1的上部11设有外螺纹16,外螺纹16位置之上设有第一倾斜台阶17;所述螺帽2的内侧设有与所述外螺纹16配合使用的内螺纹21,内螺纹21位置之上设有第二倾斜台阶22,螺帽2的外侧设有滚花。

为了提高装配精度,所述第二倾斜台阶22的倾斜角比第一倾斜台阶17的倾斜角小1°。

基座1的上部11、中部12和下部13中设有贯穿通孔18。在不影响对待装工件3进行安装定位的情况下,使得工装更加轻便。

本实施例的具体操作过程如下:

将待装工件3安放在基座1的内孔台阶14中,再将螺帽2通过螺纹旋到基座1上,直至旋紧,通过螺帽2与基座1的配合,将基座1的上部11均匀内收,从而将待装工件3与基座1内孔的微量间隙消除,使基座1紧紧地将待装工件3定位在内孔中。

通过这样的操作,待装工件3就被均匀内收的基座1所固定,在后续的焊接过程中,待装工件3不会发生位移,保证了装配的精度,保障了微波器件的性能。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽华东光电技术研究所,未经安徽华东光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320494211.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top