[实用新型]一种暗杆硬密封闸阀阀体沟槽镗削加工工装有效

专利信息
申请号: 201320448909.4 申请日: 2013-07-25
公开(公告)号: CN203437952U 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 沈德华;季昌城;赵曼;冯俊德;吴福胜 申请(专利权)人: 芜湖市华益阀门制造有限公司
主分类号: B23Q3/06 分类号: B23Q3/06;B23Q15/22
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 乔松
地址: 241100 安徽省芜湖*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 暗杆硬 密封 闸阀 阀体 沟槽 加工 工装
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及供水管道用阀门,具体地说,本实用新型涉及一种暗杆硬密封闸阀阀体沟槽镗削加工工装。

背景技术

随着国家城市化进程越来越快,建筑物的供水管道闸阀使用越来越多,客户对产品的性价比和质量要求越来越高。暗杆硬密封闸阀阀体上的沟槽对阀门的密封性能起着重要的作用。

目前,暗杆硬密封闸阀阀体上沟槽的镗削加工方法为:利用一个固定斜度工装固定被加工阀体的中头,使被加工件镗削出的沟槽呈现设计所需角度,但是在镗削完一边沟槽后,需要将零件掉转180度再将被加工阀体的中头固定,镗削另一个沟槽,所以在加工过程中需要两次装夹,容易导致两次加工的沟槽的对称度和同轴度较差,从而影响密封,并且因为要掉转一头加工,影响生产效率,使产品的质量难以提高,成本难以下降。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种暗杆硬密封闸阀阀体沟槽镗削加工工装,以提高阀门的密封性能和质量。

为了解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种暗杆硬密封闸阀阀体沟槽镗削加工工装,安装在镗床的工作台上,其包括用于安装在所述工作台上的底盘以及设在底盘上的用于固定阀体和调整阀体姿态使沟槽轴线与镗床回转轴线同轴的回转盘。

所述回转盘呈倾斜状态安装在所述底盘上,回转盘与所述工作台之间具有一个夹角。

所述底盘的与所述回转盘贴合的端面为斜面。

所述底盘的斜面上设有凸台,回转盘的端面上设有与该凸台适配的台阶孔,回转盘和底盘之间通过螺栓紧固连接。

所述底盘上设有凹槽和设在凹槽中的对回转盘定位的定位销,回转盘的端面上设有定位孔,凹槽中还设有抵住定位销的弹簧。

所述底盘通过压紧机构压紧安装在所述工作台上。

所述夹持机构包括设在所述工作台上的分布在所述底盘外侧的多个压板。

本实用新型采用上述技术方案,与现有技术相比,本工装通过回转装置调整待加工阀体镗削时的姿态,在加工时能够确保两个沟槽与镗床回转轴线同轴,加工时无需掉转阀体,镗削后的两个沟槽的对称度和同轴度较好,提高了产品的质量,省时省力,加工效率得到提高,降低了成本。

附图说明

图1为本实用新型工装的剖视图;

上述图中的标记均为:1、工作台;2、压板;3、底盘固定螺栓;4、堵头;5、回转盘;6、回转盘固定螺栓;7、底盘;8、弹簧;9、定位销;10、阀体。

具体实施方式

如图1所示为本实用新型的一种暗杆硬密封闸阀阀体沟槽镗削加工工装,安装在镗床的工作台1上,本工装包括用于安装在工作台1上的底盘7以及设在底盘7上的用于固定阀体10和调整阀体10姿态使沟槽轴线与镗床回转轴线同轴的回转盘5。采用本工装,在加工时,无需掉转阀体10,镗削完一个沟槽后,只需通过回转盘5旋转180度以调整阀体10的姿态,再镗削另一个沟槽,最终镗削完的两个沟槽的对称度和同轴度较好。

具体地说,回转盘5呈倾斜状态安装在底盘7上,回转盘5与工作台1之间具有一个夹角。为此,底盘7上与回转盘5贴合的上端面为斜面,与工作台1之间具有一个夹角。回转盘5和底盘7之间并通过T型的回转盘固定螺栓6紧固连接,底盘7的斜面上还设有凸台,回转盘5的下端面上设有与该凸台适配的台阶孔,凸台插入台阶孔中。

在底盘7上设有一个凹槽和设在凹槽中的对回转盘5进行定位的定位销9,相应在回转盘5的端面上设有定位孔,凹槽中还设有抵住定位销9的弹簧8。在镗削完一端的沟槽后,松掉回转盘固定螺栓6,此时弹簧8弹力会将回转盘5协同阀体10一起弹出,之后将回转盘5回转180度,定位销9将回转盘5定位,此时另一端沟槽与镗床回转轴线同轴,锁紧回转盘固定螺栓6,镗削另一端的沟槽。

底盘7是通过压紧机构压紧安装在工作台1上,该夹持机构包括设在工作台1上的沿底盘7圆周方向分布的多个压板2,压板2为L型,压板2通过底盘固定螺栓3紧固在工作台1上。在工作台1上还设有一个堵头4,在底盘7的下端面设有让堵头4插入的与堵头4形状适配的凹孔,其中一个回转盘固定螺栓6在底部垫在该堵头4上。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。

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