[实用新型]一种圆柱状工件切向孔钻孔工装有效
申请号: | 201320444568.3 | 申请日: | 2013-07-24 |
公开(公告)号: | CN203409315U | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 邢剑锋 | 申请(专利权)人: | 芜湖中山科技有限公司 |
主分类号: | B23B47/28 | 分类号: | B23B47/28;B23B49/02 |
代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 张小虹 |
地址: | 241009 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 圆柱状 工件 钻孔 工装 | ||
技术领域
本实用新型属于机械加工工艺装备的技术领域,涉及钻孔夹具的结构。更具体地说,本实用新型涉及一种圆柱状工件切向孔钻孔工装。
背景技术
在机械零件的加工中,经常需要在圆柱形或圆管形的工件上加工切向孔。一般切向孔是指其轴线与工件整体的轴线垂直且不相交。
在切向孔的钻孔加工中,由于孔在圆弧面上且孔为偏心设置,使得钻头单边受力,即钻头除受到轴向力外,还要受到很大的不平衡的径向力,造成钻头滑动、偏移。因此,在圆弧面上进行偏心孔的钻孔难度很大,有时无法加工。所以,该钻孔加工工艺很难实现。
实用新型内容
本实用新型提供一种圆柱状工件切向孔钻孔工装,其目的是实现圆柱状工件上的切向孔钻孔加工。
为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
本实用新型提供的圆柱状工件切向孔钻孔工装,所述切向孔的轴线与工件的轴线垂直且不相交,所述的钻孔工装设有钻套,所述的钻孔工装设有下定位块和上定位块,所述的下定位位和上定位块分别设有与所述的工件外圆柱面配合的半圆柱面。
在所述切向孔的钻孔加工状态下,所述的工件放置在下定位块和上定位块两个半圆柱面构成的圆孔内,并被夹紧;且下定位块和上定位块的相对表面有一定间隙。
在所述的下定位块固定有限位板;在所述切向孔的钻孔加工状态下,所述工件的端面与所述限位板接触。
所述的圆柱状工件为圆柱体工件;或者为圆管形的工件;或者为阶梯轴的工件。
与现有技术的圆弧面上钻孔工艺相比较,本实用新型采用上述技术方案,解决了钻头单边受力及工件固定等工艺难题,钻孔精度较高;可以实现同类型圆弧面钻孔,适用于多种同类型产品的生产制造;消耗材料少,节约原材料成本,提高产品的质量;便于维修,实用性高。
附图说明
下面对本说明书各幅附图所表达的内容及图中的标记作简要说明:
图1为本实用新型中加工工件的结构示意图;
图2为本实用新型结构的爆炸图;
图3为本实用新型的加工状态的结构示意图。
图中标记为:
1、下定位块,2、上定位块,3、限位板,4、钻套,5、工件,6、底板,7、切向孔。
具体实施方式
下面对照附图,通过对实施例的描述,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明,以帮助本领域的技术人员对本实用新型的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。
如图1所示,是圆管形的工件5,设有切向孔7。所述切向孔7的轴线与工件5的轴线垂直且不相交。
图2所示的本实用新型的结构,是一种圆柱状工件切向孔钻孔工装,所述 的钻孔工装设有钻套4。所述的钻套4起到为钻头导向和增加刚性的作用。该钻孔工装使用于圆弧面上的偏心孔的钻孔加工。
为了解决现有技术存在的问题并克服其缺陷,实现圆柱状工件上的切向孔钻孔加工的发明目的,本实用新型采取的技术方案为:
如图2所示,本实用新型提供的圆柱状工件切向孔钻孔工装设有下定位块1和上定位块2,所述的下定位块1和上定位块2分别设有与所述的工件5外圆柱面配合的半圆柱面。
下定位块1固定在底板6上。
上述钻孔工装解决了圆弧面上钻偏心孔的问题,可以实现同类型产品的加工制造。与现有的圆弧面上钻孔技术相比较,本实用新型提供的钻孔工装钻孔的精度较高,解决了钻头单边受力及工件固定等工艺难题。
在所述切向孔7的钻孔加工状态下,所述的工件5放置在下定位块1和上定位块2两个半圆柱面构成的圆孔内,并被夹紧;且下定位块1和上定位块2的相对表面有一定间隙。
采用上述结构技术方案,可以实现工件夹紧,保证钻孔时工件不会松动。
在所述的下定位块1固定有限位板3;在所述切向孔7的钻孔加工状态下,所述工件5的端面与所述限位板3接触。
通过上下定位块、钻套、底板和限位板定位及紧固圆弧表面的工件,然后在钻床上钻孔。
所述的圆柱状工件为圆柱体工件;或者为圆管形的工件;或者为阶梯轴的工件。
本实用新型的结构可以应用于上述多种相似类型的圆柱形外表面上的切向孔的加工。其优点是:
1、可以实现同类型圆弧面钻孔,适用于多种同类型产品的生产制造。
2、消耗材料少,节约原材料成本,提高产品的质量。
3、便于维修,实用性高。
上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。
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