[实用新型]光栅机械刻划工艺试验装置有效

专利信息
申请号: 201320432781.2 申请日: 2013-07-19
公开(公告)号: CN203409814U 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 石广丰;史国权;宋林森;王磊;肖为;吕洋洋;蔡宏彬;丁健生;胡明亮;周锐奇 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: B26D3/08 分类号: B26D3/08;B26D5/00;G02B5/18
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 陶尊新
地址: 130022 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 光栅 机械 刻划 工艺 试验装置
【权利要求书】:

1.一种光栅机械刻划工艺试验装置,龙门悬架安装在底座(1)上,刀架(2)刚性悬挂在龙门悬架横梁(3)中部;刻划刀具(4)安装在刀架(2)下端;定位平台与刀架(2)在Z方向上对应并安装在底座(1)上;定位平台中的直线位移平台(5)由X向平移平台、Y向平移平台、Z向平移平台(6)三者叠加连接而成;其特征在于,龙门悬架的两根立柱(7)竖直固定在底座(1)上,横梁(3)两端与两根立柱(7)内侧通过燕尾槽连接;定位平台中的弧线位移平台(8)由X轴弧线位移平台与Y轴弧线位移平台叠加而成;直线位移平台(5)与弧线位移平台(8)叠加连接在一起;XYZ三向微力测力仪(9)位于定位平台上部;刀架(2)中的X轴调节座、Y轴调节座、Z轴调节座三者叠加连接在一起。 

2.根据权利要求1所述的光栅机械刻划工艺试验装置,其特征在于,直线位移平台(5)在上、弧线位移平台(8)在下。 

3.根据权利要求1所述的光栅机械刻划工艺试验装置,其特征在于,XYZ三向微力测力仪(9)位于定位平台中的直线位移平台(5)中的Z向平移平台(6)的下面。 

4.根据权利要求1所述的光栅机械刻划工艺试验装置,其特征在于,在定位平台的上端还安装有平面真空吸附转台(11)。 

5.根据权利要求1所述的光栅机械刻划工艺试验装置,其特征在于,在刀架(2)的下端还安装有刀座(12),由刀座(12)固定刻划刀具(4);X轴调节座、Y轴调节座、Z轴调节座、刀座(12)、刻划刀具(4)具有共同的Z向几何轴线。 

6.根据权利要求1所述的光栅机械刻划工艺试验装置,其特征在于,所述定位平台中的弧线位移平台(8)中的X轴弧线位移平台与Y轴弧线位移平台结构相同,弧线位移的轴线相互垂直;X轴弧线位移平台或者Y轴弧线位移平台其结构为,上滑块(14)与下滑块(15)之间的接触面为柱面,上滑块(14)与下滑块(15)通过弧线燕尾槽结构滑动连接,丝杠螺母弧线位移驱动机构中的丝杠(16)沿与所述柱面母线垂直的方向穿过上滑块(14),与下滑块(15)柱面表面上的半螺母螺纹啮合;电机(17)固定在上滑块(14)上,电机(17)转轴通过联轴器(18)与丝杠(16)同轴连接。 

7.根据权利要求4所述的光栅机械刻划工艺试验装置,其特征在于,所述平面真空吸附转台(11)其结构为,台面(24)与台座(25)同轴连接,调整杆(26)一端与台面(24)下方的开口箍螺纹连接,开口箍套在台面(24)的转轴上;台面(24)上开有真空吸附孔,由真空泵为真空吸附孔提供负压。 

8.根据权利要求1所述的光栅机械刻划工艺试验装置,其特征在于,刀架(2)中的X轴调节座、Y轴调节座结构相同,二者的旋转调节轴线相互垂直;所述X轴调节座或者Y轴 调节座的结构为,定块(27)与动块(28)之间的接触面为柱面,定块(27)与动块(28)通过弧线燕尾槽结构滑动连接,丝杠螺母调角驱动机构中的调角丝杠(29)沿与所述柱面母线垂直的方向穿过定块(27),与动块(28)柱面表面上的半螺母螺纹啮合;刀架(2)中的Z轴调节座其结构为,转盘(30)的转轴嵌入基座(31)中,转轴的轴线为Z轴,调角螺杆(32)安装在基座(31)侧面,调角螺杆(32)与转盘(30)的转轴之间由齿轮传动机构连接;在刀架(2)中,自上而下依次是Y轴调节座、X轴调节座、Z轴调节座,Y轴调节座的定块(27)与龙门悬架的横梁(3)固定连接,X轴调节座的定块(27)与Y轴调节座的动块(28)固定连接,Z轴调节座的基座(31)与X轴调节座的动块(28)固定连接。 

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