[实用新型]一种离子氮化辉光长度观测装置有效

专利信息
申请号: 201320429645.8 申请日: 2013-07-19
公开(公告)号: CN203451603U 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 谭小明;陈亮;龚超;徐宁;刘康 申请(专利权)人: 南车戚墅堰机车车辆工艺研究所有限公司
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 何朝旭;陆明耀
地址: 213011 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 离子 氮化 辉光 长度 观测 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于离子氮化技术领域,尤其涉及一种离子氮化辉光长度观测装置。

背景技术

目前,在进行离子氮化处理时,操作人员通过炉壁上的观测孔进行观测,缺乏标准的对比装置,仅凭生产经验粗略估算炉内的离子辉光长度,因人而异,人为因素影响很大,导致工件氮化层深出现较大的偏差。所以,为了使观测到的辉光长度更加准确且符合工艺文件的要求,急需开发一种观测装置,以降低操作人员的观测误差而导致的产品质量风险。

发明内容

鉴于上述现有技术存在的缺陷,本实用新型的目的是提出一种离子氮化辉光长度观测装置,能准确测量离子氮化辉光长度,提高离子氮化处理产品的质量。

本实用新型的目的将通过以下技术方案得以实现:

一种离子氮化辉光长度观测装置,包括一观测装置本体,所述观测装置本体的观测面一侧的截面呈阶梯状,每个台阶的垂直面上分别设有一观测孔,所述观测孔为孔径不同的圆柱形的通孔,同一观测孔的孔径与孔深相等。

优选的,上述的一种离子氮化辉光长度观测装置,其中:所述各观测孔的径向中心线位于同一垂直平面内。

优选的,上述的一种离子氮化辉光长度观测装置,其中:所述观测装置本体上与所述观测面相对的一侧设有一支撑基座。

优选的,上述的一种离子氮化辉光长度观测装置,其中:所述支撑基座为长方体,所述支撑基座的上下表面分别与所述观测装置本体的上下表面在同一平面。

优选的,上述的一种离子氮化辉光长度观测装置,其中:每个所述台阶的台面的宽度为2mm。

优选的,上述的一种离子氮化辉光长度观测装置,其中:包含6个观测孔,所述观测孔的孔径从上至下分别为2mm、4mm、6mm、8mm、10mm和12mm,所述观测孔的中心点的距离从上至下分别为6mm、8mm、10mm、12mm和15mm,所述台阶的高度从上至下分别为8.5mm、7mm、9mm、11mm、13.5mm和19mm,所述支撑基座为一个高为68mm,宽为35mm,长为48mm的长方体。

优选的,上述的一种离子氮化辉光长度观测装置,其中:所述离子氮化辉光长度观测装置的各个面的表面粗糙度为Ra6.4。

本实用新型的突出效果为:本实用新型的一种离子氮化辉光长度观测装置,可以将通过不同孔径的观测孔观测到的工件表面的离子氮化辉光长度和该观测孔的孔径进行对比,从而可以快速、准确地得出炉内离子氮化辉光长度,同时,可以根据观测到的结果以及产品的技术要求及时调整相关工艺参数,确保产品的渗氮层深度符合技术要求。

以下便结合实施例附图,对本实用新型的具体实施方式作进一步的详述,以使本实用新型技术方案更易于理解、掌握。

附图说明

图1是本实用新型实施例的主视图;

图2是本实用新型实施例的左视图;

图3是本实用新型实施例的俯视图。

具体实施方式

本实施例的一种离子氮化辉光长度观测装置,如图1~图3所示,包括观测装置本体1,观测装置本体1的观测面一侧的截面呈阶梯状,每个台阶的垂直面上分别设有一个观测孔2,观测孔2为孔径不同的圆柱形的通孔,同一观测孔2的孔径与孔深相等。各观测孔2的径向中心线位于同一垂直平面内。观测装置本体1上与观测面相对的一侧设有支撑基座3,支撑基座3为长方体,支撑基座3的上下表面分别与观测装置本体1的上下表面在同一平面。

具体地,包含6个观测孔2,每个台阶的台面的宽度为2mm,观测孔2的孔径从上至下分别为2mm、4mm、6mm、8mm、10mm和12mm,观测孔2的中心点的距离从上至下分别为6mm、8mm、10mm、12mm和15mm,台阶的高度从上至下分别为8.5mm、7mm、9mm、11mm、13.5mm和19mm,支撑基座3为一个高为68mm,宽为35mm,长为48mm的长方体。离子氮化辉光长度观测装置的各个面的表面粗糙度为Ra6.4。

本实施例的一种离子氮化辉光长度观测装置,可以将通过不同孔径的观测孔2观测到的工件表面的离子氮化辉光长度和该观测孔2的孔径进行对比,从而可以快速、准确地得出炉内离子氮化辉光长度,同时,可以根据观测到的结果以及产品的技术要求及时调整相关工艺参数,确保产品的渗氮层深度符合技术要求。该装置采用价格低廉的碳素钢加工制作,成本较低。

本实用新型并不限于前述实施方式,本领域技术人员在本实用新型技术精髓的启示下,还可能做出其他变更,但只要其实现的功能与本实用新型相同或相似,均应属于本实用新型的保护范围。

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