[实用新型]一种新型围板箱上盖有效
| 申请号: | 201320422183.7 | 申请日: | 2013-07-16 |
| 公开(公告)号: | CN203381920U | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
| 发明(设计)人: | 王忠 | 申请(专利权)人: | 苏州良才物流科技股份有限公司 |
| 主分类号: | B65D43/02 | 分类号: | B65D43/02 |
| 代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 马明渡;徐丹 |
| 地址: | 215122 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 新型 围板箱上盖 | ||
技术领域
本实用新型涉及周转箱,尤其涉及一种围板箱的上盖。
背景技术
在商品的批发、零售过程中,常使用到一种围板箱。所谓围板箱,由托盘、上盖以及围板组成,在空箱运输及收纳时,围板可以折叠合拢收藏于托盘和上盖之间,使用很方便。在取件时若要将上盖揭开并放置在一旁,较占据空间,故而有在围板箱上盖的内顶面上设置定位柱,使上盖揭开后可通过定位柱悬挂在围板上。上述现有结构可参见专利号为201220387779.3,申请日为2012-8-7的实用新型专利。上述现有结构中,为了上盖使用时无方向问题,上盖上的定位柱是两两面对面设置的,这就带来了以下问题:由于定位柱面对面的设置,在盖子以一侧定位柱悬挂于围板上后,在将盖子拉回盖上的过程中,另一侧的定位柱会对拉回动作形成阻碍,需要人工将盖子翘起避让开这个定位柱,方可继续拉动,操作较为费力。
发明内容
本实用新型目的是提供一种新型围板箱上盖,以解决现有技术中将上盖拉回盖上的过程中会受阻碍,操作费力的问题。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种新型围板箱上盖,所述上盖的内顶面上设有至少一个凸块,该凸块上相背的两侧各设有钩挂用的凹槽,所述两侧凹槽在平行于上盖盖平面的方向上背对背设置。
上述技术方案中的有关内容解释如下:
1、上述方案中,所述“上盖的内顶面”是指上盖在盖着的状态下朝围板箱内的盖平面。
2、上述方案中,所述上盖的内顶面上设有横梁,所述凸块向下凸伸,使凸块的最底面低于横梁的最底面。
3、上述方案中,所述上盖的内顶面上设有直线型的横梁,该直线型的横梁中间打断设中断处,所述凸块设于该中断处,且凸块上的凹槽背对背的连线方向与直线型横梁的走向相同;所述直线型横梁上对应朝向凸块上两凹槽的端部上设有导向倾面。
4、上述方案中,所述上盖为矩形盖体,在其内顶面上的近两短边侧各设一所述凸块,所述凸块上的凹槽背对背的连线方向与上盖的短边方向相同。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
由于本实用新型设置了凸块,在凸块的相背的两侧各设有钩挂用的凹槽,使上盖揭开后可通过凹槽钩挂在围板的上边沿上,并且,在将盖子拉回盖上的过程中不存在阻碍,直接拉回盖子盖上即可,操作省力方便。
附图说明
图1为本实用新型实施例结构立体示意图,该图表示上盖的内顶面朝上的放置状态;
图2为图1的A处局部放大示意图;
图3为上盖钩挂于围板上的状态的立体示意图;
图4为上盖钩挂于围板上的状态的侧视示意图;
图5为图4的B处局部放大示意图。
以上附图中:1、上盖;2、凸块;3、凹槽;4、横梁;5、中断处;6、导向倾面;7、围板;8、托盘。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
实施例:参见图1~图5所示:
一种新型围板箱上盖,所述上盖1的内顶面上设有至少一个凸块2,该凸块2上相背的两侧各设有钩挂用的凹槽3,所述两侧凹槽3在平行于上盖1盖平面的方向上背对背设置。
所述上盖1为矩形盖体,在其内顶面上的近两短边侧各设一所述凸块2,所述凸块2上的凹槽背对背的连线方向与上盖的短边方向相同。
所述上盖1的内顶面上设有直线型的横梁4,该直线型的横梁4中间打断设中断处5,所述凸块2设于该中断处5,且凸块2上的凹槽3背对背的连线方向与直线型横梁4的走向相同;所述直线型横梁4上对应朝向凸块上两凹槽3的端部上设有导向倾面6。
上述为举例说明,实际中在上盖1的内顶面上设有纵横交纵的横梁4的情况下,也可直接将凸块2向下凸伸,使凸块2的最底面低于各个横梁4的最底面,这么就无需在横梁4上再设导向倾面6了。
当实际中上盖1为一正方形盖体时,可在其内顶面上靠四边的中部各设一凸块2,即整个上盖上共设4个凸块2,使这个正方形盖体的四个方向上均相同,无需判断方向就可以将上盖1直接盖在围板7上。
实际中,凸块2的数量最少是一块,它可以设置在上盖1内顶面的中部,凸块的宽度可以设得较宽,能保证上盖1与围板箱的围板7边沿两点支撑的效果即可。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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