[实用新型]一种具有双低辐射膜层的玻璃有效

专利信息
申请号: 201320420932.2 申请日: 2013-07-16
公开(公告)号: CN203391417U 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 唐华明 申请(专利权)人: 苏州华东镀膜玻璃有限公司
主分类号: B32B17/06 分类号: B32B17/06;C03C17/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215011 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 辐射 玻璃
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种镀膜玻璃,尤其涉及一种具有双低辐射膜层的玻璃。

背景技术

低透射率(low-E)镀膜玻璃是在浮法玻璃基片表面上镀上纯银膜层,以降低玻璃辐射率阻隔红外热辐射。根据不同的使用需要,在银膜层的两侧面分别镀制适当的保护层和匹配层,使其具有所需求的可见光透过率,以保持必要的室内光线照度,同时兼顾且降低太阳光谱中的红外线辐射进入室内以降低室内的热负荷,并较好的防止过量紫外线辐射进入室内。

目前市场上常规双银膜层low-E玻璃结构为:四氮化三硅+氧化锌+银+镍铬+氧化锌+银+镍铬+四氮化三硅。此种双银膜层low-E结构具有较高的可见光透过率、极低的太阳能透过率、并且具有更低的遮阳系数Sc,它最大限度地将太阳光过滤成为冷光源,解决了高可见光透过率与低太阳能透过率不能兼顾的矛盾,为追求外观通透性的设计提供了节能性的保障。但是,现有这种膜层结构生产出来的产品膜层较为脆弱,产品在储存、切割、磨边、清洗、钢化、中空、半成品保存等深加工过程中稍不小心,就会造成无法挽回的质量问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种具有双低辐射膜层的玻璃,能够提高玻璃基片上膜层的稳定性和深加工的可靠性,大大降低生产成本,而且制造出来的双低辐射膜层的光学和热学性能基本没有变化,膜层不易氧化退化。

本实用新型为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种具有双低辐射膜层的玻璃,包括玻璃基片,其中,所述玻璃基片上依次镀有第一四氮化三硅膜层、第一氧化锌膜层、第一铜膜层、第一镍铬膜层、第二氧化锌膜层、第二铜膜层、第二镍铬膜层和第二四氮化三硅膜层。

上述的具有双低辐射膜层的玻璃,其中,所述第一四氮化三硅膜层和第二四氮化三硅膜层的厚度相同。

上述的具有双低辐射膜层的玻璃,其中,所述第一氧化锌膜层和第二氧化锌膜层的厚度相同。

上述的具有双低辐射膜层的玻璃,其中,所述第一铜膜层和第二铜膜层的厚度相同。

上述的具有双低辐射膜层的玻璃,其中,所述第一镍铬膜层和第二镍铬膜层的厚度相同。

本实用新型对比现有技术有如下的有益效果:本实用新型提供的具有双低辐射膜层的玻璃,把玻璃基片上易于氧化的银膜层改成铜膜层,从而大幅提高原本相对脆弱的膜层的稳定性和深加工的可靠性,大大降低生产成本,而且制造出来的双低辐射膜层的光学和热学性能基本没有变化,膜层不易氧化退化。

附图说明

图1为本实用新型具有双低辐射膜层的玻璃结构示意图。

图中:

1玻璃基片      2第一四氮化三硅膜层    3第一氧化锌膜层

4第一铜膜层    5第一镍铬膜层          6第二氧化锌膜层

7第二铜膜层    8第二镍铬膜层          9第二四氮化三硅膜层

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述。

图1为本实用新型具有双低辐射膜层的玻璃结构示意图。

请参见图1,本实用新型提供的具有双低辐射膜层的玻璃包括玻璃基片1,其中,所述玻璃基片1上依次镀有第一四氮化三硅膜层2、第一氧化锌膜层3、第一铜膜层4、第一镍铬膜层5、第二氧化锌膜层6、第二铜膜层7、第二镍铬膜层8和第二四氮化三硅膜层9。

本实用新型提供的具有双低辐射膜层的玻璃,其中,所述第一四氮化三硅膜层2和第二四氮化三硅膜层9的厚度最好相同;所述第一氧化锌膜层3和第二氧化锌膜层6的厚度最好相同;所述第一铜膜层4和第二铜膜层7的厚度最好相同;所述第一镍铬膜层5和第二镍铬膜层8的厚度最好相同。

本实用新型提供的具有双低辐射膜层的玻璃,为了保证膜层厚度和均匀性,可以采用真空磁控溅射镀膜技术,在玻璃基片上将与银(Ag)同样导电性能较好的金属铜(Cu)与其他金属化合物均匀的镀在玻璃表面上,使得膜层结构变为四氮化三硅+氧化锌+铜+镍铬+氧化锌+铜+镍铬+四氮化三硅;然后将改良后的双低辐射low-e玻璃经过切割、磨边、钢化、中空后制成可供使用的中空玻璃,其光学和热学性能基本未发生变化,而且大大降低了生产成本,大幅提高原本相对脆弱的膜层的稳定性和深加工的可靠性,并且膜层不易氧化退化。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭示如上,然其并非用以限定本实用新型,任何本领域技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围内,当可作些许的修改和完善,因此本实用新型的保护范围当以权利要求书所界定的为准。

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