[实用新型]石墨坩埚及包含其的单晶炉

权利要求书

1.一种石墨坩埚，其特征在于，包括多个瓣体（10），各所述瓣体均具有对接面（14），相邻两个所述瓣体（10）之间通过所述对接面（14）对接，相对接的两个所述对接面（14）之间形成对接缝隙（12），所述对接缝隙（12）处嵌设有防止所述石墨坩埚内的腐蚀性物质从所述对接缝隙（12）处流出的阻挡层（11）。

2.根据权利要求1所述的石墨坩埚，其特征在于，所述瓣体（10）上设置有凹槽（13），所述凹槽（13）从所述对接面（14）向所述瓣体（10）的侧壁凹陷，相对接的两个所述瓣体（10）的所述凹槽（13）相对以安装所述阻挡层（11）。

3.根据权利要求2所述的石墨坩埚，其特征在于，所述凹槽（13）的深度大于所述对接缝隙（12）的宽度。

4.根据权利要求2所述的石墨坩埚，其特征在于，所述凹槽（13）到所述瓣体（10）的内表面和外表面的距离相等。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的石墨坩埚，其特征在于，所述凹槽（13）从所述瓣体（10）的上边缘延伸至所述瓣体（10）的底部，所述阻挡层（11）将所述对接缝隙（12）全部阻挡或部分阻挡。

6.根据权利要求1所述的石墨坩埚，其特征在于，所述阻挡层（11）为钼片层。

7.根据权利要求6所述的石墨坩埚，其特征在于，所述钼片层垂直于所述对接缝隙（12）。

8.一种单晶炉，包括炉体和石墨坩埚，所述石墨坩埚设置在所述炉体内，其特征在于，所述石墨坩埚为权利要求1至7中任一项所述的石墨坩埚。