[实用新型]盖板自动定位装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及定位技术领域，尤其涉及一种盖板自动定位装置。 

背景技术

阵列基板PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition等离子体增强化学气相沉积法）工艺中，需要将玻璃基板放置在下部电极板上，四边被盖板覆盖住边缘才能完成工艺，参考图1，图中标注“a”代表盖板，标注“b”代表玻璃基板，标注“c”代表下部电极板，本文所有附图中关于标注“a”、“b”、“c”代表的含义都一致。 

而每一张玻璃基板在PECVD完成一次工艺时，都会在下部电极与盖板之间，在垂直方向完成一次放置，分离循环。 

由于PECVD工艺工程中具有高温、导电、强腐蚀等特性，盖板只能凭借自身重力放置在下部电极板上。但是若盖板和下部电极板之间长期循环分离、放置动作会导致盖板与下部电极板之间发生不可预计的位移，导致盖板不能有效地覆盖住玻璃边缘，参考图2，当玻璃没有被盖板覆盖而出现缝隙时，在此位置的下部电极与盖板间则容易发生异常放电，导致两者报废，造成加工成本的增加。 

实用新型内容

（一）要解决的技术问题 

本实用新型的目的是提供一种盖板自动定位装置，以克服现有技术中没有特定的盖板定位装置，导致盖板和下部电极板之间因出现缝隙而容易发生异常放电，造成两者报废的缺陷。 

（二）技术方案 

为解决上述问题，本实用新型提供一种盖板自动定位装置，包括： 盖板主体和下部电极板； 

基板设置于所述下部电极板上，所述基板的面积小于下部电极板的面积； 

所述盖板主体为边框形，其覆盖所述基板的边缘区域，所述盖板主体下表面设有台柱，所述台柱接触所述下部电极板； 

所述台柱上设有朝向下部电极板的凸起，所述下部电极板上设有与凸起相对应的凹槽，通过所述凸起置于所述凹槽中，使得盖板主体与下部电极板进行对位。 

进一步地，所述凸起的端部为圆角设计。 

进一步地，所述凹槽的截面为梯形。 

进一步地，所述凹槽的内表面底角采用圆角设计。 

进一步地，所述下部电极板连接驱动单元，在驱动单元的作用下，所述下部电极板进行上升或下降运动。 

（三）有益效果 

本实用新型提供的盖板自动定位装置，采用在盖板的台柱上设置凸起以及在下部电极板上设置凹槽的设计，通过两者之间的配合，使得在重力作用下，实现盖板与下部电极板间不会发生相对位移，确保盖板覆盖玻璃基板边缘的有效率，进而最大程度地延长部件的使用寿命，进而节省加工成本。 

附图说明

图1为现有技术PECVD工艺中盖板对位示意图； 

图2为现有技术中盖板对位时出现的缝隙示意图； 

图3为本实用新型实施例盖板自动定位装置结构示意图； 

图4为本实用新型实施例盖板自动定位装置对位过程示意图。 

具体实施方式

下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案做进一步详细的描述，但不仅仅限于下面的实例。 

如图3所示，本实用新型提供一种盖板自动定位装置，包括：盖板主体和下部电极板； 

基板设置于所述下部电极板上，所述基板的面积小于下部电极板的面积； 

盖板主体为边框形，其覆盖所述基板的边缘区域，所述盖板主体下表面设有台柱，所述台柱接触所述下部电极板； 

台柱上设有朝向下部电极板的凸起，所述下部电极板上设有与凸起相对应的凹槽，通过所述凸起置于所述凹槽中，使得盖板主体与下部电极板进行对位。 

其中，为了降低盖板和下部电极板两者之间的静止摩擦力，设置凸起的端部为圆角，其中，凹槽的截面为梯形，凹槽的内表面底角采用圆角设计。 

其中，下部电极板连接驱动单元，在驱动单元的作用下，所述下部电极板进行上升或下降运动。 

具体实施工艺方法如下： 

参考图4，工艺前：玻璃基板放置在下部电极板上。盖板未与下部电极板接触，悬挂于下部电极板的正上方。 

参考图3，工艺时：下部电极板在驱动单元的驱动下进行上升，将悬挂在工艺腔壁上的盖板托起，凸起接触到凹槽的斜壁，盖板在自身重力的作用下，自动地下滑到凹槽槽底，实现自动定位功能。