[实用新型]一种用于生产碳化硅外延片的化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种用于生产碳化硅外延片的化学气相沉积设备，设备腔体由内向外依次为石墨支撑台、石墨软毡层、石英壁层和加热感应线圈，所述设备腔体还包括一个固定于石墨支撑台上弧形气流阻挡环。 

2.如权利要求1所述的设备，其特征在于所述弧形阻挡环的宽0.8～1.2cm，半径比衬底晶片的半径大1～1.5cm，设置高度为0.3～0.7cm。 

3.如权利要求1所述的设备，其特征在于所述阻挡环的弧度为90～180度。 

4.如权利要求1所述的设备，其特征在于所述阻挡环通过石墨螺丝固定于支撑台上。