[实用新型]磁粉探伤仪磁头有效
申请号: | 201320388024.X | 申请日: | 2013-07-02 |
公开(公告)号: | CN203365383U | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 郭宁生;朱林放;张冰峰;张小铭 | 申请(专利权)人: | 亚星(镇江)系泊链有限公司 |
主分类号: | G01N27/84 | 分类号: | G01N27/84 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 212000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 探伤 磁头 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种磁粉探伤仪,尤其是一种可对曲面进行探伤的磁粉探伤仪磁头,属于无损检测设备技术领域。
背景技术
磁粉探伤基本原理是:铁磁性材料和工件被磁化后,由于缺陷的存在,使工件表面或近表面的磁力线发生局部畸变而产生漏磁场,从而吸附施加在工件表面的磁粉,形成在合适光照下目视可见的磁痕,进而显示出缺陷的位置、形状和大小。
系泊锚链是关系到海洋石油工程装置、石油钻井平台和单点系泊装置等在海洋系泊安全的重要部件,其质量的优劣关系到海洋系泊工程的安全,其制造工序为:棒料加热—水平弯曲成形—闪光焊接—去焊接毛刺—压入横档。根据船级社规范要求,需对系泊锚链环焊缝处以及焊缝两侧的热影响区进行磁粉探伤,以检测出工件表面或近表面的裂纹、分层等缺陷,便于及时修磨。在对系泊锚链环进行磁粉探伤时,同一部位电磁轭应交叉成90°两个方向分两次探伤,即沿系泊锚链环长度方向进行一次,沿系泊锚链环焊缝处横截面两侧进行一次,便于检测出系泊锚链环焊缝处以及焊缝两侧的热影响区表面的细小缺陷或不规则缺陷,防止漏检。
现有电磁轭为倒U形结构,其两端的磁头两相对内侧面均为斜面,磁头底面为平面,磁头内侧、磁头底面与被检测的系泊锚链环曲面均为线接触,导致探伤时无法保证同一部位两次探伤的交叉角度为90°,同时,磁头与系泊锚链环表面接触面积小,磁头与系泊锚链环表面之间间隙大,二者之间形成的磁场强度小,磁轭提升力小,最终使探伤灵敏度下降,极易出现漏检现象。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种结构简单、探伤灵敏度高的磁粉探伤仪磁头。
本实用新型通过以下技术方案予以实现:
一种磁粉探伤仪磁头,所述磁头成对设置,磁头上端与磁粉探伤仪磁轭下端铰接;一对磁头两相对的内侧面下端分别设有弧面相对的第一凹圆弧面,与内侧面相邻的磁头底面内凹形成第二凹圆弧面,所述第一凹圆弧面的圆弧面轴线垂直于第二凹圆弧面的圆弧面轴线,第一凹圆弧面的曲率半径与第二凹圆弧面曲率半径相等且分别与工件横截面的曲率半径吻合。
本实用新型的目的还可以通过以下技术措施来进一步实现。
前述的磁粉探伤仪磁头,其中所述第二凹圆弧面的弧高h为第二凹圆弧面曲率半径的0.26~0.28。
本实用新型采用轴线互相垂直的双弧面结构,在环形工件纵向和横截面方向的被测部位,探伤磁头两次与环形工件表面的接触均为面接触,接触面积大,二者之间间隙小,保证了探伤过程中的磁场强度,同时能有效保证同一部位两次探伤能以交叉成90°两个方向进行;大大提高了探伤灵敏度,减少了漏检现象的发生。磁痕显示清晰,检测可靠,也满足了船级社和客户对磁粉探伤仪电磁轭提升力大于4.5kg的要求。
本实用新型的优点和特点,将通过下面优选实施例的非限制性说明进行图示和解释,这些实施例,是参照附图仅作为例子给出的。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是图1的右视图。
具体实施方式
下面结合附图和系泊锚链环检测的实施例对本实用新型作进一步说明。
如图1和图2所示,本实用新型磁头1上端与磁粉探伤仪磁轭下端铰接(图中未画出),一对磁头两相对的内侧面11下端分别设有弧面相对的第一凹圆弧面12,与内侧面相邻的磁头底面13内凹形成第二凹圆弧面14,第一凹圆弧面12的圆弧面轴线垂直于第二凹圆弧面14的圆弧面轴线,第一凹圆弧面12的曲率半径与第二凹圆弧面14曲率半径相等且分别与工件横截面的曲率半径吻合,以保证磁头1与系泊锚链环2表面接触充分。
第二凹圆弧面14的弧高h为第二凹圆弧面曲率半径的0.27,确保磁头1下端能稳定地支撑在系泊锚链环上。第一凹圆弧面11和第二凹圆弧面14可根据被检系泊锚链环2规格的相应尺寸定制,也可采用一种磁头1的第一凹圆弧面11和第二凹圆弧面14对应多个规格的系泊锚链环2,以节约成本。在做提升力试验时,本实用新型可平稳提起标准试块,不会发生试块移动和滑落现象。做灵敏度校验时(试片A1 7/50),磁痕显示清晰、无任何模糊现象,满足船级社和客户对磁轭提升力的要求。
本实用新型还可用于其它棒材、环形工件、管材以及其它表面为曲面的工件的探伤。
除上述实施例外,本实用新型还可以有其他实施方式,凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本实用新型要求的保护范围内。
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