[实用新型]一种用于真空镀膜的磁导向装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种用于真空镀膜的磁导向装置。 

背景技术

一般大型连续性真空镀膜设备，主要是由连续不断的将靶材溅射沉积到玻璃基板上。在整个生产流程中，基板需要通过基片架进行运载，并保持直线传输。其中基片架前进的传动方式为底部采用齿轮齿条结构，上半部分为悬空的竖梁与横梁，中间用弹簧夹头装夹着玻璃。因基片架较高，上面的横梁在运输过程中容易发生左右摆动，摆动过程中容易使装载的基片掉片，同时摆动时可能发生于加热器等擦碰现象，导致掉粉尘影响产品的质量。为避免此类摆动现象，我们特提出一种用于真空镀膜的磁导向装置，通过加装磁导向装置，限制基片架上半部分因刚性不足在传输过程中发生的摆动现象。 

实用新型内容

针对上述问题，本实用新型旨在提供一种用于真空镀膜的磁导向装置。 

为实现该技术目的，本实用新型的方案是：一种用于真空镀膜的磁导向装置，包括真空箱体、磁导向装置、基片架、传动装置、磁铁，所述真空箱体为长方体，构成本新型整体外壳，所述基片架两端设有限位装置，一端安装磁导向装置，另一端安装传动装置，所述磁铁分别安装在真空箱体顶部与磁导向装置内部，所述磁铁有两排。 

作为优选，所述两排磁铁同极相对靠近安装，从而避免晃动。 

本实用新型在在现有技术上增加磁导向装置，以限制基片架上半部分的晃动，避免了擦碰现象，无粉尘产生，进一步提高了产品质量，可有效的降低成本，提高工作效率，节省工作时间。 

附图说明

图1为本实用新型用于真空镀膜的磁导向装置结构示意图； 

图2为本实用新型磁导向装置结构示意图。 

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步详细说明。 

如图1-2所示，本实用新型实施例的一种用于真空镀膜的磁导向装置，包括真空箱体1、磁导向装置2、基片架3、传动装置4、磁铁5，所述真空箱体1为长方体，构成本新型整体外壳，所述基片架3两端设有限位装置，一端安装磁导向装置2，另一端安装传动装置4，所述磁铁5分别安装在真空箱体1顶部与磁导向装置2内部，作为优选，所述磁铁5有两排。 

作为优选，所述两排磁铁5同极相对安装，从而避免晃动。 

以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同替换和改进，均应包含在本实用新型技术方案的保护范围之内。