[实用新型]方形全钽电容器外壳冲压模具有效

专利信息
申请号: 201320380771.9 申请日: 2013-06-29
公开(公告)号: CN203304421U 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 王洪胜;唐江军;李春;胡志宏 申请(专利权)人: 湖南华冉科技有限公司
主分类号: B21D37/10 分类号: B21D37/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 412100 湖南省株洲市株洲*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 方形 钽电容 外壳 冲压 模具
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种全钽材料的拉伸模具,尤其涉及方形全钽电容器外壳冲压模具。

背景技术

钽的质地十分坚硬,钽富有延展性,可以拉成细丝式制薄箔。其热膨胀系数很小。钽有非常出色的化学性质,具有极高的抗腐蚀性。无论是在冷和热的条件下,对盐酸、浓硝酸及“王水”都不反应。可用来制造蒸发器皿等,也可做电子管的电极、整流器、电解、电容。

钽在酸性电解液中形成稳定的阳极氧化膜,用钽制成的电解电容器,具有容量大、体积小和可靠性好等优点,制造电容器是钽的最重要用途。

目前方形全钽电容器外壳难以加工,要多次拉伸;并且产品容易产生拉痕,容易拉裂,不光滑,还容易损伤模具。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种方形全钽电容器外壳冲压模具,减少拉伸次数,减少产品表面拉痕,提高产品表面光洁度,提高工效。

为实现以上目的,本实用新型采用的技术方案是:方形全钽电容器外壳冲压模具,它包括模柄座(2)、上模座(3)、上模(4)、压边圈(6)、螺栓(7)、下模(8)、垫板(9);顶针(10)、下夹板(11)和下模座(12);其特征在于:所述的的上模(4)上开了方形凹模孔,孔内配置有头部为方形的打杆(1);所述的螺栓(8)将下模(8)、垫板(9)固定在下模板(12)上;所述的压边圈(6)镶嵌在下模(8)内,随顶针(10)一起运动;所述的压边圈(6)内镶嵌有方形下公(6),下公(6)下方支撑有下夹板(11)。

进一步的,所述的上模(4)、下模(8)采用Cr12MoV材料,模具表面采用TD覆膜工艺覆膜。

本实用新型的有益效果:1、一次冲压成型,减少拉伸次数,减少了产品表面拉痕,方形边角开裂比率大大降低,提高了产品品质,提高了工效。

2、降低了产品对模具的损耗,不影响下次产品成型,模具使用更久。

附图说明

图1为本实用新型的机构示意图。

图2为本实用新型的下模俯视图。

图3为使用本实用新型的产品成型示意图。

图4为使用本实用新型成型的产品。

图中所述的数字标注表示为:1、打杆;2、模柄座;3、上模座;4、上模;5、下公;6、压边圈;7、螺栓;8、下模;9、垫板;10、顶针;11、下夹板;12、下模座;13、成品。

具体实施方式

 为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面结合附图对本实用新型进行详细描述,本部分的描述仅是示范性和解释性,不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。

如图1-图2所示,本实用新型的装配关系为:它包括模柄座2、上模座3、上模4、压边圈6、螺栓7、下模8、垫板9;顶针10、下夹板11和下模座12;其特征在于:所述的的上模4上开了方形凹模孔,孔内配置有头部为方形的打杆1;所述的螺栓8将下模8、垫板9固定在下模板12上;所述的压边圈6镶嵌在下模8内,随顶针10一起运动;所述的压边圈6内镶嵌有方形下公6,下公6下方支撑有下夹板11。

在模具材料的选用上,所述的上模4、下模8采用Cr12MoV材料,模具表面采用TD覆膜工艺覆膜。

如图3,在实际生产过程中,钽板料放在下模8上,下模4向下行走。当上模4下行到与钽板料接触时,打杆1不动,上模4继续下行,压边圈6将板料压紧在上模4上,随上模4、顶针10一起向下行走。下模8,方形下公5不动。钽板料在此过程中完成切料与拉伸变形。

形变结束后,上模4上行,顶针10推动压边圈6上行,产品13在上模4凹模腔内,继续上行至与打杆1位置,被打杆1挤出凹模腔,即形成了方形钽电容外壳。

需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括哪些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述,以上实例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,由于文字表达的有限性,而客观上存在无限的具体结构,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进、润饰或变化,也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合;这些改进润饰、变化或组合,或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均应视为本实用新型的保护范围。

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