[实用新型]用于硅片生产的热交换器清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及硅片加工设备技术领域，尤其涉及一种用于硅片生产的热交换器清洁装置。

背景技术

在太阳能硅片的生产过程中，切割硅片时砂浆混合液的温度较高，再循环使用的过程中，需使用热交换器将其降温处理。因长时间工作，热交换器的物料通道内会残留大量的砂浆以及轨粒等固结的残留物，需及时清理以免影响其工作性能。

目前，热交换器的清理工作由人工完成，因残留物固结在热交换器内部，人工清理起来不仅工作量大，耗费时间，而且极易造成对热交换器的损坏。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于硅片生产的热交换器清洁装置，旨在解决在硅片生产过程中，热交换器因长时间工作而导致的其内部固结的残留物难以清理的问题。

本实用新型是这样实现的，用于硅片生产的热交换器清洁装置包括循环水罐，所述循环水罐的出水口通过循环水进水管与热交换器的物料入口相连通，所述循环水进水管上设有循环泵，循环水罐的回水口通过循环水回水管与所述热交换器的物料出口相连通；

所述循环水罐的热水进水口通过热水进水管连通热水源，所述热水进水管上设有热水泵，所述循环水罐的自来水进水口连通自来水源，所述自来水源与所述循环水罐之间的管道上设有第一控制阀；

所述循环水罐的清洗液入口连通清洗液源，所述清洗液源与所述循环水罐之间的管道上设有第二控制阀，所述循环水罐的下部设有排水管，所述排水管上设有第三控制阀。

作为一种改进的方案，所述循环水罐内设有温度传感器，所述温度传感器的信号输出端电连接计算机控制单元；所述计算机控制单元的信号输出端分别与所述循环泵、所述热水泵、所述第一控制阀、所述第二控制阀以及所述第三控制阀的信号输入端电连接。

本实用新型提供的用于硅片生产的热交换器清洁装置，由于其设置的循环水罐可以实现对热交换器循环冲洗以达到将固结在热交换器内的砂浆以及硅粒的固结残留物溶解冲洗下来的目的，而且与循环水罐相连通的清洗液源可以为清洗砂浆残留物提供加快其溶解的KOH溶液，而且与循环水罐相连通的热水源以及自来水源则可为其化学反应提供适宜温度的水源，加快了其清洗的效率，不仅保证了清洗的洁净程度，还能有效防止对热交换器的损坏。

附图说明

图1是本实用新型提供的用于硅片生产的热交换器清洁装置的结构示意图；

图中：1-循环水罐，2-循环水进水管，3-热交换器，4-循环泵，5-循环水回水管，6-热水进水管，7-热水源，8-热水泵，9-自来水源，10-第一控制阀，11-清洗液源，12-第二控制阀，13-排水管，14-第三控制阀，15-温度传感器，16-计算机控制单元。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型提供的用于硅片生产的热交换器清洁装置包括循环水罐，该循环水罐的出水口通过循环水进水管与热交换器的物料入口相连通，循环水进水管上设有循环泵，循环水罐的回水口通过循环水回水管与热交换器的物料出口相连通；

循环水罐的热水进水口通过热水进水管连通热水源，热水进水管上设有热水泵，循环水罐的自来水进水口连通自来水源，自来水源与循环水罐之间的管道上设有第一控制阀；

循环水罐的清洗液入口连通清洗液源，清洗液源与循环水罐之间的管道上设有第二控制阀，循环水罐的下部设有排水管，排水管上设有第三控制阀。

图1示出了本实用新型提供的用于硅片生产的热交换器清洁装置的结构示意图，为了便于说明，本图仅提供与本实用新型有关的结构部分。

用于硅片生产的热交换器清洁装置包括循环水罐1，循环水罐1的出水口通过循环水进水管2与热交换器3的物料入口相连通，循环水进水管2上设有循环泵4，循环水罐1的回水口通过循环水回水管5与热交换器3的物料出口相连通；

循环水罐1的热水进水口通过热水进水管6连通热水源7，热水进水管6上设有热水泵8，循环水罐1的自来水进水口连通自来水源9，自来水源9与循环水罐1之间的管道上设有第一控制阀10；

循环水罐1的清洗液入口连通清洗液源11，清洗液源11与循环水罐1之间的管道上设有第二控制阀12，循环水罐1的下部设有排水管13，排水管13上设有第三控制阀14。