[实用新型]绝缘瓷瓶清洗支撑装置有效

专利信息
申请号: 201320355656.6 申请日: 2013-06-20
公开(公告)号: CN203395527U 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 钟涛;罗超;冯胜;刘晨晨;江浣;朱睿;杨文新;刘星;陈蓉;林俊 申请(专利权)人: 国家电网公司;国网四川省电力公司南充供电公司
主分类号: F16M11/20 分类号: F16M11/20
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 谭新民;梁田
地址: 100000 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 绝缘 瓷瓶 清洗 支撑 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及电器设备清洁装置领域,尤其涉及一种绝缘瓷瓶清洗支撑装置。

背景技术

绝缘瓷瓶是用来支持导线的绝缘体,用于保证导线和横担、杆塔有足够的绝缘。绝缘瓷瓶是电力系统中的重要组成构件,其好坏对线路的安全运行是十分重要。在检查线路和变电站的线路、瓷瓶污秽程度时,就要对瓷瓶进行分析,而瓷瓶大而笨重,在清洗的过程中,既不方便又不容易清洁干净还容易损坏,影响试验的准确性。

此外,在做绝缘瓷瓶盐密和灰密测试时,为了保证测量的准确性,用蒸馏水清洗绝缘瓷瓶时应保证绝缘瓷瓶表面的物质都被洗干净。在清洗时,由于绝缘瓷瓶比较重,体形为圆形,而且直接用手拿着清洗影响试验结果。这样很难保证试验结果的准确,试验误差尤为明显。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题就在于:针对现有技术存在的上述问题,本实用新型提供一种结构简单、成本低、安装简易的绝缘瓷瓶清洗支撑装置,该装置能够将绝缘瓷瓶固定,保证清洗过程的方便和快捷,能有效减少绝缘瓷瓶污染。

为实现上述目的,本实用新型的绝缘瓷瓶清洗支撑装置,包括支撑底板,支撑底板的左右两端分别设置有左支撑架、右支撑架,其中,左支撑架和右支撑架的顶端均设置有弧形固定架。

作为本实用新型的进一步改进,上述支撑底板上还设置有滑槽,左支撑架安装在滑槽内,可在滑槽内左右移动并可根据需求固定在滑槽内的任意位置,以满足不同长度瓷瓶的固定需要。

优选的,上述左支撑架的高度小于右支撑架的高度。

优选的,上述支撑底板长度为90cm-110cm,上述左支撑架高度为8cm-12cm,上述右支撑架高度为25cm-35cm。

进一步,上述支撑底板长度为100cm,上述左支撑架高度为10cm,上述右支撑架高度为30cm,所述固定架为半圆形。

优选的,所述支撑底板、左支撑架、右支撑架、固定架均采用不锈钢制成。

相对于现有技术,本实用新型具有如下优点和有益效果:

1、本实用新型为绝缘瓷瓶的清洗提供了清洗支撑装置,无需人工直接用手拿着绝缘瓷瓶清洗,避免了人工手握清洗造成的污染,保证绝缘瓷瓶试验结果的准确性。

2、本实用新型还能有效防止绝缘瓷瓶滑落,减少设备损坏;

3、本实用新型能有效减少人员劳动强度,提高工作效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图例说明:1、支撑底板;11、滑槽; 21、左支撑架; 22、右支撑架; 3、固定架。

具体实施方式

下面结合实施例及附图,对本实用新型作进一步的详细说明,但本实用新型的实施方式不仅限于此。

【实施例1】

如图1所示,本实施例的绝缘瓷瓶清洗支撑装置,包括支撑底板1,支撑底板1的左右两端分别设置有左支撑架21、右支撑架22,其中,左支撑架21和右支撑架22的顶端均设置有弧形固定架3。上述支撑底板1长度为90cm-110cm,上述左支撑架21高度为8cm-12cm,上述右支撑架22高度为25cm-35cm。本实施例中,绝缘瓷瓶清洗支撑装置为绝缘瓷瓶的清洗提供了清洗支撑装置,无需人工直接用手拿着绝缘瓷瓶清洗,避免了人工手握清洗造成的污染,保证绝缘瓷瓶试验结果的准确性;也能有效防止绝缘瓷瓶从人手中滑落,减少设备损坏;还能有效减少人员劳动强度,提高工作效率。

【实施例2】

在实施例1的基础上,本实施例的绝缘瓷瓶清洗支撑装置,其支撑底板1上还设置有滑槽11,左支撑架21安装在滑槽11内,可在滑槽内左右移动并可固定在滑槽内的任意位置,以满足不同长度绝缘瓷瓶的固定需要。左支撑架21在滑槽11内的固定可采用本领域常用的技术手段,例如但不限于:在滑槽内设置锁止机构、限位机构等,此处不再赘述。其中,上述支撑底板1长度为100cm,上述左支撑架21高度为10cm,上述右支撑架22高度为30cm,上述固定架3为半圆形。此外,为提高绝缘瓷瓶清洗支撑装置的使用寿命,且避免该绝缘瓷瓶清洗支撑装置污染绝缘瓷瓶,上述支撑底板1、左支撑架21、右支撑架22、固定架3均采用不锈钢制成。

以上仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,应视为本实用新型的保护范围。

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