[实用新型]放射剂量测量装置有效

专利信息
申请号: 201320355619.5 申请日: 2013-06-20
公开(公告)号: CN203337825U 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 宋启斌;张军;阮长利 申请(专利权)人: 张军
主分类号: G01T1/08 分类号: G01T1/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430022 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 放射 剂量 测量 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于医用放射剂量测量领域,具体涉及一种放射剂量测量装置。

背景技术

目前对放射治疗的剂量测量主要有三种方法,第一种是胶片测量:使用胶片进行放疗剂量的测量验证,方法是将胶片夹在模体中进行测量,第二种是使用非晶硅探测器,第三种是使用电离室矩阵进行测量。使用胶片测量,由于胶片需要冲洗,使用不方便,后来虽然采用免冲胶片但还是需要手工使用扫描仪到计算机中,使用依然不方便不快捷;使用非晶硅平板进行剂量测量和验证具有成像面积大,分辨率高,但是由于直线加速器的射线能量很高,容易造成非晶硅平板损伤,实用性较差;使用电离室矩阵比较耐用但是由于电离室本身具有一定的体积,所以导致测量分辨率也较低。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种结构简单、使用方便快捷且分辨率高、测量精确度高的放射剂量测量装置。

实现本实用新型目的的技术方案是:一种放射剂量测量装置,包括剂量建成模体、闪烁屏、射线反向散射模体、光学镜片组、感光元件和处理电路,所述闪烁屏设置在所述剂量建成模体与射线反向散射模体之间,所述射线反向散射模体与所述闪烁屏紧密贴合,所述感光元件与所述处理电路电连接,所述闪烁屏将不可见X射线转换为可见光,所述光学镜片组接收闪烁屏发出的光线并聚焦到感光元件,所述射线反向散射模体的反向散射线散射至闪烁屏上。X射线打击在射线反向散射模体上并在射线反向散射模体上的各个部分包括中心的地方都会产生各个方向的散射,一部分反向反射至闪烁屏上,为闪烁屏提供足够的反向散射线,所述剂量建成模体与所述闪烁屏分离式配合。采用分离式设计,在使用时将剂量建成模体放置,在不使用时将剂量建成模体取下,使用方便快捷。

或所述剂量建成模体与所述闪烁屏固定连接。

所述射线反向散射模体是能够为闪烁屏提供充足反向散射射线的透明材料模体,使测量更加接近真实照射情况,由于其高透光性,而不会影响到闪烁屏产生的可见光的通透。

所述感光元件为CCD或CMOS芯片或光电二极管阵列。

所述光学镜片组包括反射镜、光学透镜或光导纤维。

所述闪烁屏用于将不可见的X射线图像转变为可见光像,一般由碘化铯或硫氧化钆等材料制成。

还包括感光元件射线屏蔽装置。可有效的屏蔽射线直接打至感光元件上产生白色噪声影响测量精度,一定程度上提高了测量精度。本实用新型中感光元件射线屏蔽装置是直接在感光元件周围包裹厚厚的高密度屏蔽金属,以防止X射线作用在感光元件上产生白斑噪声。或是由金属制成有拐角的迷道的方式,其配合反射镜等镜片能达到理想的屏蔽效果。或是在上述的两种方法中加入铅玻璃等透明的射线屏蔽,该屏蔽位于光学通路上,可以是在光学镜片组和CCD之间也可以是在光学镜片中组成光学镜片的一部分,也可以是在闪烁屏和光学镜片组之间,因为高透光,所以较小影响到光线聚焦到感光元件上,达到理想的屏蔽效果。

所述感光元件、光学镜片组、射线反向散射模体、闪烁屏设置在光学密闭环境中。

本实用新型具有积极的效果:本实用新型的结构简单、使用方便快捷,设有射线反向散射模体,使测量的剂量更符合真实照射时的情况,而且可以有效避免闪烁屏直接与空气形成界面而导致剂量在测量位置急剧变化而测量不准确,一定程度上提高了分辨率高以及测量精确度,实用性好。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚的理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本实用新型作进一步详细的说明,其中:

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

(实施例1)

图1显示了本实用新型的一种具体实施方式,其中图1为本实用新型的结构示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张军,未经张军许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320355619.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top