[实用新型]一种等离子体刻蚀设备的腔室内衬有效
| 申请号： | 201320335702.6 | 申请日： | 2013-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN203481181U | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 张钦亮;平志韩;苏静洪;王谟;祝启蒙 | 申请（专利权）人： | 天通吉成机器技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 赵芳;黄芳 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 设备 内衬 | ||
【权利要求书】：
1.等离子体刻蚀设备的腔室内衬，其特征在于：包括圆筒状的本体，本体上设有取送待刻蚀晶片的传送片口，本体的外壁与等离子刻蚀设备的反应腔室适配，本体底部设有一圈向内延伸的环形底板，环形底板与待刻蚀晶片的位置匹配，环形底板上均匀地分布有匀流槽孔；本体的顶部设有与反应腔室连接的固定法兰。
2.如权利要求1所述的等离子体刻蚀设备的腔室内衬，其特征在于：反应腔室一侧设有抽真空室，内衬底板分隔所述的反应腔室和抽真空室，抽真空室与抽真空泵连接。
3.如权利要求1或2所述的等离子体刻蚀设备的腔室内衬，其特征在于：匀流槽由呈同心圆排布的槽孔组成，同一个圆周上等间隔地分布有多个槽孔。
4.如权利要求3所述的等离子体刻蚀设备的腔室内衬，其特征在于：槽孔为圆弧形，槽孔的宽度约为1.5mm，圆弧形槽孔的圆心角小于或等于20°。
5.如权利要求4所述的等离子体刻蚀设备的腔室内衬，其特征在于：传送片口高出环形底板的顶面。
6.如权利要求5所述的等离子体刻蚀设备的腔室内衬，其特征在于：外壁上开设有观察孔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天通吉成机器技术有限公司，未经天通吉成机器技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320335702.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
