[实用新型]一种陶瓷坩埚

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷坩埚，更具体地说，本发明涉及一种用于粉体高温处理的陶瓷坩埚，属于新材料生产设备技术领域。

背景技术

陶瓷由于具有较好的导热性、机械强度、耐高温性、耐腐蚀性，应用越来越广泛，可用于制作高温坩埚、耐火炉管及耐腐蚀、耐磨部件。高纯陶瓷坩埚使用温度高达1600-1800℃，化学稳定性好，可代替铂金材质的坩埚，作为高纯材料的高温热处理容器。

目前现有技术中陶瓷坩埚都是圆筒状或锥状，一体结构：

国家知识产权局于2013.2.6公开了一件公开号为CN202719869U的实用新型专利，该专利公开了一种炉外法生产高纯中间合金附带出渣口的氧化铝坩埚，包括锅体，在锅体的侧壁上开有出渣口。本实用新型公开的坩埚适用于铝热法生产高品质的中间合金，并且有利于提高生产效率，可以有效地应用于大规模生产。

国家知识产权局于2010.2.3公开了一件公开号为CN201395646的实用新型专利，该专利公开了一种氮化硅陶瓷整体坩埚，该坩埚为高纯氮化硅经高温烧结一体成型或 高纯氮化硅经高温烧结相拼组合成型。本实用新型的氮化硅陶瓷整体坩埚是 采用高纯氮化硅粉体经过传统的混料造粒成型等工艺过程处理后再放入1650℃-1900℃左右的高温中烧结而成的，其抗热震性强、质硬耐磨，既不与熔融硅起反应，生产过程中不会污染原料，保证了原料的纯度，又可以在1400摄氏度以上的高温中长时间反复多次使用，节约了生产成本。

上述两件专利中的陶瓷坩埚都为一体式的整体结构，在应用于高温处理受热膨胀比较大的材料时，坩埚内部热处理的材料与坩埚之间易产生局部应力，易导致坩埚开裂，影响坩埚使用寿命。

实用新型内容

本实用新型旨在消除坩埚内部热处理时，材料与坩埚之间的局部应力，提供一种陶瓷坩埚，提高陶瓷坩埚的使用寿命。

为了实现上述目的，本实用新型具体的技术方案如下：

一种陶瓷坩埚，包括坩埚体，其特征在于：所述的坩埚体上端和下端均开口，所述的坩埚体由坩埚体的纵截面分成第一陶瓷衬片和第二陶瓷衬片两部分，所述的坩埚体的纵截面为从坩埚体上端或下端开口处沿着坩埚体高度方向至另一端的切面；所述的坩埚体下方设置有陶瓷垫片，所述的坩埚体放置于陶瓷垫片上；所述的第一陶瓷衬片、第二陶瓷衬片以及陶瓷垫片之间均为能够相互分离和接触的独立设置。

上述第一陶瓷衬片、第二陶瓷衬片以及陶瓷垫片之间均为能够相互分离和接触的独立设置是指：所述的陶瓷坩埚为分体式结构，分为第一陶瓷衬片、第二陶瓷衬片和陶瓷垫片三部分，他们之间可以自由的相互接触或者分离，所述的第一陶瓷衬片和第二陶瓷衬片与陶瓷垫片之间可以相对滑动。

本实用新型所述的坩埚体为圆柱体或者圆台体。

本实用新型所述的从坩埚体上端或下端开口处沿着坩埚体高度方向至另一端的切面垂直于水平面。

本实用新型所述的从坩埚体上端或下端开口处沿着坩埚体高度方向至另一端的切面与水平面呈30-45度的夹角。

本实用新型所述的陶瓷垫片为圆形或者方形。

本实用新型带来的有益技术效果：

对比现有技术中的陶瓷坩埚，本实用新型将现有的整体式和一体式坩埚结构改为三部分的分离式结构，包括由两片陶瓷衬片组成的坩埚体和分离式的陶瓷垫片，这样的结构能够使坩埚受内部应力时自动分离，避免开裂，提高了坩埚的使用寿命；避免对热处理材料的挤压，耐高温，可在1600℃以上长期使用，并且不易导致热处理的粉体受压团聚，防止部分晶粒过分生长、粒度不均匀等问题的出现。

附图说明

图1为本实用新型陶瓷垫片为圆形的陶瓷坩埚结构示意图；

图2为本实用新型陶瓷垫片为方形的陶瓷坩埚结构示意图；

图3为本实用新型陶瓷垫片为圆形的陶瓷坩埚俯视图；

图4为本实用新型陶瓷垫片为方形的陶瓷坩埚俯视图；

图5为本实用新型坩埚体为圆台体，且下端底面大于上端底面的机构示意图。

图6为本实用新型坩埚体为圆台体，且下端底面小于上端底面的机构示意图。

图7为本实用新型陶瓷衬片连接在一起的结构示意图；

图8为本实用新型陶瓷衬片之间的接触面与水平面倾斜的结构示意图；

附图标记：1为坩埚体、2为陶瓷垫片、11为第一陶瓷衬片、12为第二陶瓷衬片。

具体实施方式

实施例1