[实用新型]等离子体气相薄膜沉积设备的附属前端模块

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种等离子体气相薄膜沉积设备的附属前端模块，属于半导体薄膜气相沉积设备应用领域。

背景技术

等离子体气相薄膜沉积设备是将晶圆置于真空环境中，通入适量的反应气体，利用气体的物理化学反应，在晶圆表面形成固态薄膜。在气体薄膜沉积的整个工艺过程中，晶圆在设备前端模块中的大气压与真空状态的转换是通过小传片腔和大传片腔进行传送。在等离子体增强型化学气相沉积工艺的实际应用中，有一种硅晶圆是在一个玻璃片的一面涂上一层粘合剂，粘贴住硅晶圆；另一面是一层胶带，由于胶带中含有水分，需要在温度为120-180℃、压力在300m torr左右的环境中,把胶带中的水分去除，这就是这种附属模块所能实现的功能，可称为Degas Chamber（干燥腔）。

现有技术中与此附属前端模块相关的技术，如：半导体晶圆干燥机的定速排水装置，该排水装置是利用气体惰性气体排出晶圆中的水分，此装置结构复杂，成本高，无法与等离子体增强型化学气相沉积设备的多腔室结合成一个完整的工艺流程。该定速排水装置需要将晶圆取出放置于干燥槽内进行干燥，干燥完成之后再取出进行工艺试验，存在着工作效率低、人工及惰性气体材料的成本高的问题。

发明内容

本实用新型是以解决上述技术问题为目的，主要解决现有附属前端模块存在的结构复杂、工作效率低及生产成本高的问题，而提供一种结构合理、晶圆受热均匀的新型等离子体气相薄膜沉积设备的附属前端模块。

为实现上述目的，本实用新型采用下述技术方案：等离子体气相薄膜沉积设备的附属前端模块，它包括干燥腔，上盖板，加热灯及晶圆支架四个部分。其中上盖板和加热灯为标准件连接的一体机构，通过螺栓固定在干燥腔上，干燥腔作为前端模块与整体设备的接口连接。

上述晶圆支架是由晶圆支架垫块、晶圆支架底板及晶圆支架托板以标准件的形式进行组装而成。将组装完成的晶圆支架以标准件连接方式安装在干燥腔内。将干燥腔上盖板与加热灯组装，组装完成之后将组装完成的上盖板和加热灯以标准件连接方式安装在干燥腔的上方。各部分组件安装完成之后，干燥腔通过整体设备接口与多腔室的薄膜设备进行连接，安装在多腔室薄膜设备反应腔前一个流程的位置，这样就使得干燥腔作为多腔室的薄膜设备的一个附属前端模块。在进行薄膜工艺之前可以先将晶圆送入到干燥腔，去除晶圆胶带上的水分。

本实用新型在晶圆的工艺过程中，首先需要去除晶圆胶带中的水分。可以直接加载在具有多腔室等离子体增强型化学气相沉积设备中的传片腔上，使干燥腔成为晶圆工艺流程中的一部分。该实用新型使在晶圆表面形成固态薄膜之前不仅可以除去晶圆胶带中的水分而且又不影响正常的工艺流程；增加烘干晶圆工艺却不增加生产时间，相当于增加设备的功能却不降低生产效率。

本实用新型的积极效果与优点：

本实用新型能够去除晶圆胶带中的水分，保证晶圆表面形成固态薄膜的质量；同时可以作为设备和设备工艺流程的一个附属前端模块，无需将晶圆取出后进行烘干，大大提高工作效率，降低成本。

1、本实用新型在上方设置烘干腔盖，腔盖与烘干灯结合为一体，方便了安装。烘干灯按照360°平均排布的方式进行排列，配干燥腔下方的传动机构，保证干燥腔内部各处受热均匀，对晶圆的加热烘干均匀。

2、干燥腔内部设置有晶圆支架，该晶圆支架的上方可以同时存放若干片晶圆，达到多片晶圆同时进行烘干，可以保证设备多腔室晶圆同时进行工艺。

3、该发明的整个附属前端模块可以成为等离子体增强型化学气相沉积设备中晶圆工艺流程的一部分，安装在多腔室设备传片腔的连接端口上，在不降低生产效率的同时除去晶圆上胶带的水分。

附图说明

图1为本实用新型干燥腔主视图。

图2为本实用新型干燥腔左视图。

图3为本实用新型干燥腔加热灯与上盖板的俯视图。

图4为本实用新型干燥腔加热灯与上盖板的主视图。

图5为本实用新型干燥腔晶圆支架主视图；

图6为本实用新型干燥腔晶圆支架俯视图

具体实施方式

实施例

参照图1-6，等离子体气相薄膜沉积设备的附属前端模块，它包括干燥腔，上盖板，加热灯及晶圆支架四个部分。其中上盖板和加热灯为标准件连接的一体机构，通过螺栓固定在干燥腔上，干燥腔作为前端模块与整体设备的接口连接。