[实用新型]真空磁控溅射用旋转阴极靶

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空磁控溅射用旋转阴极靶。

背景技术

目前最常用的制备薄膜的方法是真空磁控溅射法。真空磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百K的直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。

典型的溅射用旋转阴极包括一圆柱状旋转管，该旋转管的外表面涂覆有一层靶材料层。在这种旋转阴极的制造过程中，靶材料一般通过喷射而涂覆在旋转管上，因此旋转管与靶材料可以看成是一体的，当靶材料耗竭后旋转管也就失去了作用，若是在旋转管上重新喷射靶材料其加工成本也是相当的昂贵。

实用新型内容

为了克服上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种拆装方便、有利于降低成本的真空磁控溅射用旋转阴极靶。

本实用新型所采用的技术方案是：

一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，包括管状的衬管和套设在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材，所述衬管外壁上设有外螺纹，所述靶材内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。

作为上述技术方案的进一步改进，所述靶材的材质为纯度不小于99.9%的银。

作为上述技术方案的进一步改进，所述衬管的材质为不锈钢304或不锈钢316。

作为上述技术方案的进一步改进，所述衬管两端的外壁上分别设有用于容纳卡簧的凹槽，所述凹槽呈环状。

作为上述技术方案的进一步改进，所述靶材的外径为110mm～190mm，所述靶材的内径为90mm～170mm。

作为上述技术方案的进一步改进，所述衬管的外径为90mm～170mm，所述衬管的内径为70mm～150mm。

本实用新型的有益效果是：本实用新型衬管外壁设有外螺纹，靶材内壁设有内螺纹，两者通过螺纹连接后，使得靶材的安装非常方便，而且当靶材将要耗竭而无法继续使用时，亦容易从衬管中分离以回收利用，未使用的靶材也就能旋出衬管再加工使用，也使得衬管可以重复利用，大大节省了材料的损耗，节省了成本。

附图说明

下面结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1中A部分的放大示意图。

具体实施方式

如图1和图2所示，一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，包括管状的衬管1和套设在衬管1外壁上并随衬管1旋转的靶材2。衬管1包括两个端部和一个中间部，在两个端部的外壁上分别设有用于容纳卡簧的凹槽3，凹槽3呈环状，外置的卡簧经连接动力头夹紧凹槽3带动衬管1旋转。在衬管1中间部外壁上设有外螺纹，靶材2内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹，较好的是用梯形螺纹连接，当然，三角螺纹连接也是可以采纳的方式。

衬管1的材质为不锈钢304或不锈钢316，具有较高的结构强度，同时也能满足磁场的要求。

较优的，靶材2的外径为110mm～190mm，最优的为160mm；靶材2的内径为90mm～170mm，最优的为133mm；衬管1的外径应与靶材2的内径相同，而衬管1的内径范围为70mm～150mm，最优的为125mm。

在本实施例中，靶材2的材质为纯度不小于99.9%的银。

本实施例中的真空磁控溅射用阴极靶的加工方法如下：将纯度≥99.99%的银料熔炼、浇铸成锭，将铸锭挤压成管状坯，进行分割，或者锻、轧成管状坯，再内螺纹加工与衬管1（外螺纹）进行连接；或者将铸锭挤压成管状直接内螺纹加工与衬管1（外螺纹）进行连接。

由于平面银靶利用率只有30%左右，而本实施例中的旋转阴极银靶则有70%以上的靶材利用率，大大节约了原料的成本。而且本实施例中靶材直接由银料熔炼、浇铸、挤压成型，其同质均匀更好，由于靶材与衬管采用的螺纹连接的方式，靶材安装更方便，回收拆分更简便，衬管还可以多次使用。

以上所述只是本实用新型优选的实施方式，其并不构成对本实用新型保护范围的限制。