[实用新型]一种电容屏有效
申请号: | 201320300125.7 | 申请日: | 2013-05-29 |
公开(公告)号: | CN203414935U | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 赖金洪 | 申请(专利权)人: | 惠州比亚迪实业有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 516083*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电容 | ||
技术领域
本实用新型属于触摸屏技术领域,尤其涉及一种电容屏。
背景技术
目前,市面上常见的各种手机、媒体播放器、导航系统、数位相机等电子产品开始配套各种类型的触摸屏,依据其原理,可分为电阻式、电容式、红外线式和表面声波式,电容式触摸屏(以下简称电容屏)最为常见。电容屏的功能层主要由位于可视区域的透明导电电极以及边缘非可视区域的走线构成,各电极之间断路,而各走线则与电极连接,形成若干通道。特别是中大尺寸的电容屏,其通道数很多,而产品的外观设计则需要更窄的边框,因此对边缘走线的线宽和线距要求越来越高。
目前现有技术中,电容屏的边缘走线一般由银浆丝印或金属镀膜层光刻蚀刻而得,得到的电容屏的结构式如图1所示。其中,银浆丝印法的成本较低,但线宽/线距一般在120/120微米~80/80微米范围内良率较高,线宽/线距越小,良率越低。而金属镀膜层光刻蚀刻法,则可以使边缘走线的线宽/线距达到30/30微米及以下,但其需要经过金属镀膜、光刻胶涂布、曝光显影、烘烤、酸法蚀刻、脱膜等众多繁琐工序,且设备投资大,因此成本很高。
发明内容
本实用新型解决了现有技术提供的电容屏存在的边缘走线的线宽/线距较大、良率低、和成本高的技术问题。
本实用新型提供了一种电容屏,所述电容屏包括屏幕衬底,所述屏幕衬底的可视区域上覆盖有透明电极层,屏幕衬底的非可视区域上覆盖有装饰层,所述透明电极层的边缘延伸至装饰层上;所述装饰层的上表面覆盖有激光屏蔽层,激光屏蔽层的上表面覆盖有导电线路;所述透明电极层的边缘与导电线路之间电连接。
作为本实用新型的进一步改进,所述屏幕衬底为玻璃或塑胶,所述屏幕衬底的厚度为0.3-1.5mm。
作为本实用新型的进一步改进,所述装饰层为装饰油墨或光刻胶;所述装饰层的厚度为1-20微米。
作为本实用新型的进一步改进,所述透明电极层为ITO镀膜层,所述透明电极层的厚度为0.01-0.3微米。
作为本实用新型的进一步改进,所述装饰层位于屏幕衬底的四周,所述透明电极层位于屏幕衬底的中间。
作为本实用新型的进一步改进,所述激光屏蔽层为为双层油墨结构,其中底层为白色油墨层,表层为透明反光UV油墨层。
作为本实用新型的进一步改进,所述激光屏蔽层的厚度为3-30微米。
作为本实用新型的进一步改进,所述导电线路为银线路,且其厚度为3-20微米。
本实用新型提供的电容屏,其边缘导电线路的线宽/线距能达到40/40微米,且产品良率高、成本低廉。
附图说明
图1是采用现有技术提供的电容屏的结构示意图。
图2是采用本实用新型提供的电容屏的结构示意图。
图中,1——屏幕衬底,2——装饰层,3——透明电极层,4——激光屏蔽层,5——导电线路。
具体实施方式
发明人在透明基材表面形成金属线路(例如银走线)时,发现:为了提高银浆的走线精度,可以采用激光蚀刻银浆技术,具体步骤为:先大面积丝印块状银浆,再通过激光烧蚀将块状银浆层切断,从而分割成精细的银走线。采用该激光蚀刻银浆技术,最小可获得40/40微米的线宽/线距,基本达到金属镀膜黄光蚀刻的水平,且成本不高、良率较高。但发明人发现:由于不同材料对不同波长的光吸收系数是不相同的,而用于蚀刻银浆的激光为红外光,因此该激光蚀刻银浆技术仅适用于对红外光不吸收的基材,使得其目前多用于透明基材上的丝印银浆蚀刻。
而目前的OGS或G1F电容屏结构中,在其屏幕衬底上一般形成有一层装饰层,其主要作用在于遮盖屏幕衬底非可视区域的走线,并提供外观装饰效果,然后走线形成在该装饰层上。而目前电容屏的装饰层的传统材料为吸收红外光的材质,在后续采用激光蚀刻银浆的同时,也会对装饰层造成破坏,导致触摸屏边框透光,使得激光蚀刻银浆技术还无法用于此类电容屏制作领域。
发明人通过实验发现,如果在不改变传统装饰层的基础上,而在装饰层表面覆盖一层保护层,也可防止装饰层被激光破坏。因此,本实用新型提供了一种新型结构的电容屏,如图2所示,所述电容屏包括屏幕衬底1,屏幕衬底1的非可视区域上覆盖有装饰层2,所述屏幕衬底1的可视区域上覆盖有透明电极层3,并延伸至装饰层2上;所述装饰层2的上表面覆盖有激光屏蔽层4,激光屏蔽层4的上表面覆盖有导电线路5;所述透明电极层3的边缘与导电线路5之间电连接。
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