[实用新型]一种二维周期性V型金属等离子共振结构有效
申请号: | 201320281519.2 | 申请日: | 2013-05-21 |
公开(公告)号: | CN203249871U | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 吕昌贵;祁正青;王肇征;毕纪军;叶莉华;钟嫄;崔一平 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65;B82Y15/00;B82Y20/00 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 211189 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二维 周期性 金属 等离子 共振 结构 | ||
1.一种二维周期性V型金属等离子共振结构,其特征在于:包括衬底(1)和金属膜(2);所述衬底(1)的形状为V型凹槽,V型凹槽底部设有狭缝;所述金属膜(2)设于衬底(1)的上表面上和V形凹槽内。
2.根据权利要求1所述的一种二维周期性V型金属等离子共振结构,其特征在于:所述衬底(1)为晶体硅衬底,晶体硅衬底的上表面晶向为<100>,晶体硅衬底的V形凹槽斜面晶向为<111>。
3.根据权利要求1所述的一种二维周期性V型金属等离子共振结构,其特征在于:所述金属膜(2)为金膜或银膜。
4.根据权利要求1所述的一种二维周期性V型金属等离子共振结构,其特征在于:所述V形凹槽的斜面倾斜角为54.7°。
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