[实用新型]镭射水转印结构

权利要求书

1.一种镭射水转印结构，其特征在于包含：

一基材，基材一侧面上布设有转印本体的离形层；

一转印本体，由离形层、双层固化金油、油墨层、讯息层、压纹、金属层与膜体组成，且离形层上又设有双层固化金油，该双层固化金油上刷设有油墨层，而油墨层上再植设有讯息层，其讯息层上凹设有多条压纹，且压纹上镀设有金属层，另外该讯息层上形成将金属层覆盖的膜体。

2.如权利要求1所述的镭射水转印结构，其特征在于，该基材为聚乙烯对苯二甲酸脂材质。

3.如权利要求1所述的镭射水转印结构，其特征在于，该转印本体的膜体的厚度设为20至50奈米。

4.如权利要求1所述的镭射水转印结构，其特征在于，该转印本体的压纹设为不同深浅的凹凸纹路。

5.如权利要求1所述的镭射水转印结构，其特征在于，该转印本体的讯息层为导电材质所构成。

6.如权利要求1所述的镭射水转印结构，其特征在于，该转印本体的讯息层为石墨所构成。

7.如权利要求1所述的镭射水转印结构，其特征在于，该转印本体的膜体为聚乙烯醇材质。