[实用新型]一种LPCVD系统法兰炉门

说明书

技术领域

本实用新型属于炉门，具体涉及一种LPCVD系统法兰炉门。

背景技术

目前，市场上的高压半导体分立器件，均采用LPCVD系统（即低压化学气相沉积系统）在晶片表面长一层表面钝化薄膜来保护。此LPCVD系统在运行过程中，反应室是在低压高温的条件进行工作的（气压最低10mtorr左右，温度最高在800℃左右），普通的炉门即使密封性能好，但由于密封圈在高温下工作很快就软化，软化后的密封圈就会失去密封的效果，导致普通的炉门不能模拟在工艺的条件下进行炉温拉测，且产品进出炉也十分的不方便，这些缺陷达不到反应室所需的工艺要求，就会造成不能产出高品质的产品，而无法满足客户的需求。

因此，为了满足反应室所需的低压高温的工作条件，产出高品质的产品，改进一个即能密封又能耐高温，也可模拟工艺条件下拉测炉温，且操作方便简洁的法兰炉门是十分有必要的。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种LPCVD系统法兰炉门。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下的技术方案：

一种LPCVD系统法兰炉门，包括炉门框架、活动设于框架上的炉门板、设于炉门板内面上的密封圈，所述框架上还设有水冷循环系统，包括冷却水进水管、冷却水出水管以及布置于炉门框架内且分别与冷却水进水管和冷却水出水管相连的冷却通道。

所述炉门板背面上开设有炉门测温口，测温口端部设有测温口螺帽和与之配合的测温口堵头。

所述测温口端部内还设有测温口密封圈，并通过设置测温口卡套固定。

所述炉门框架的侧部还设有一对大象管挂钩。

采用上述技术方案，本实用新型的LPCVD系统法兰炉门具有以下几个优点：。

1、增加了水冷循环系统，保证法兰炉门密封性能好的同时，又能耐得起高温，满足了反应室的工作条件，产出的产品才能满足客户的需求。

2、改进了可密封的炉门测温口，可以模拟在工艺要求的条件下进行炉温的拉测，避免了普通炉门因不能模拟拉测炉温而达不到标准工艺的炉温要求。

3、增加了一对可挂大象管的挂钩，利用大象管对产品进出炉比较方便和稳妥，避免了普通炉门因用手工对产品进出炉而造成的不方便和人为摔舟造成产品损失的现象。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明：

图1为本实用新型的法兰炉门的立体示意图（关闭状）。

图2为本实用新型的法兰炉门的安装立体示意图（打开状）

图3本实用新型的法兰炉门的侧视示意图（关闭状）。

图4为图3中的A部放大示意图。

图5为采用大象管与炉门配合使用的状态示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行具体举例说明：

本实用新型的LPCVD系统法兰炉门如图1、图2所示，其主要包括炉门框架1、活动设于框架1上的炉门板2、设于炉门板2内面上的密封圈3。与现有技术不同的是，所述框架上还设有水冷循环系统，包括冷却水进水管4、冷却水出水管5以及布置于炉门框架1内且分别与冷却水进水管4和冷却水出水管5相连的冷却通道（图中未示出），通过冷却水循环来对法兰炉门进行冷却，使炉门板2上的密封圈3不会软化，达到既能密封又能耐高温的特点，而普通炉门上的密封圈在高温下容易软化，软化后的密封圈就起不到密封的作用，这样就不能满足反应室的工作条件，就不能产出高品质的产品来满足客户需求。

请结合图3、图4所示，所述炉门板2背面上还开设有测温口6，测温口6端部设有测温口螺帽14和与之配合的测温口堵头7。另外，所述测温口6端部内还设有测温口密封圈8，并通过设置测温口卡套9固定，以保证测温口堵头7与测温口6之间的密封。如此，将普通炉门不能密封的炉门测温口改进为可以密封的炉门测温口6，这样就可以模拟在工艺条件下进行炉温拉测，达到拉测的炉温与产品在实际工艺中的炉温一致，与普通炉门不能密封，拉测的炉温与工艺要求的炉温有一定的差异相比，可密封拉测炉温的炉门，才能更好的保证产出高品质的产品来满足客户的要求。

请结合图5所示，所述炉门框架1的侧部还设有一对大象管挂钩10。由于利用大象管11对产品进出炉比较方便和稳妥，因此设置与大象管11相匹配的挂钩10，能够使的作业员操作时，产品进出炉更加的方便和稳妥，避免了在使用普通炉门时，产品进出炉会因人为的失误因素而导致摔舟，很有可能将造成整舟的产品都有报废的后果。图4中，12为推拉杆，13为LPCVD系统的石英炉管。

综上所述，本实用新型的LPCVD系统法兰炉门具有以下几个优点：