[实用新型]用于等离子体涂层的装置

权利要求书

1.一种借助等离子体喷涂方法在基底(3)表面(2)上形成用于等离子体涂层的装置(1)，其中，通过在该装置(1)的至少两个构成阳极和阴极的电极之间施加电压可产生电弧，并且其中，该装置(1)具有气体输送装置和用于输送有待在所述表面(2)上沉积的材料的输送装置(10)，所述材料能够通过加热至等离子体温度的气体被熔化，从而所述熔化的材料微粒能够借助于通过所述装置(1)的雾化气体出口(14)的雾化气体射流(12)向所述基底表面(2)方向被传输，并且在那里沉积，其特征在于，为了熔化粉末状材料和/或线材状材料，所述装置(1)配备至少另一个安置在所述雾化气体出口(14)区域内的用于产生辅助电弧的电极(11)。 

2.根据权利要求1所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，所述输送装置(10)不但能够用于粉末状材料的输送，而且也能够用于线材状材料的输送。 

3.根据权利要求1或2所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，所述装置(1)具有可替换的燃烧器头(4)，该燃烧器头具有用于产生辅助电弧的唯一一个附加阴极(9)。 

4.根据权利要求1所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，所述电极(11)设计为在只应用粉末状材料时能够被断开。 

5.根据权利要求3所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，将所述燃烧器头(4)可替换地安置在所述装置(1)上。 

6.根据权利要求1所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，所述装置(1)具有至少一个与所述雾化气体出口(14)相邻的、尤其安置在所述雾化气体出口(14)侧旁的喷嘴(15)，通过该喷嘴可按需要输送外切于或围绕所述雾化气体射流(12)的辅助气体射流。 

7.根据权利要求6所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，所述装置(1)具有多个在所述雾化气体出口(14)的环周上分布的喷嘴(15)。 

8.根据权利要求6或7所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，从至少一个喷嘴(15)射出与所述雾化气体射流(12)轴向平行的辅助气体射流、或者聚焦至所述雾化气体射流(12)的射流轴线(13)的辅助气体射流。 

9.根据权利要求6或7所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，所述至少一个喷嘴(15)能够活动地、尤其转动地安置在所述装置(1)上。 

10.根据权利要求8所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，所述至少一个喷嘴(15)能够活动地、尤其转动地安置在所述装置(1)上。 

11.根据权利要求6或7所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，至少用于各个喷嘴(15)的气流能够独立地被调节。 

12.根据权利要求8所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，至少用于各个喷嘴(15)的气流能够独立地被调节。 

13.根据权利要求1或2所述的用于等离子体涂层的装置(1)，其特征在于，所述装置(1)为给空心体内壁面涂层能够围绕轴线(6)转动地被设置。