[实用新型]等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统有效

专利信息
申请号: 201320250400.9 申请日: 2013-05-10
公开(公告)号: CN203284462U 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 杨普磊;祖章旭;赵成林 申请(专利权)人: 河北金宏阳太阳能科技股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/513
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 夏素霞
地址: 054100 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 化学 沉积 镀膜 设备 送气 系统
【权利要求书】:

1.一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,包括一排支管道(4),所述支管道(4)的一端均和进气管道(3)的一侧连通,所述进气管道(3)和总管道(1)连通,支管道(4)的上方设有一排出气孔(5),其特征在于:所述进气管道(3)的另一侧还设有一排支管道(4),以上构成一组进气装置。

2.根据权利要求1所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,其特征在于:所述支管道(4)对称分布在进气管道(3)的两侧,间隔均匀,支管道(4)上方的出气孔(5)均匀分布。

3.根据权利要求1所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,其特征在于:所述进气管道(3)的前端设置有调节阀门(2)。

4.根据权利要求1、2或3所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,其特征在于:设有2组以上的进气装置,各进气装置的进气管道(3)均与总管道(1)连通。

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