[实用新型]等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统有效
申请号: | 201320250400.9 | 申请日: | 2013-05-10 |
公开(公告)号: | CN203284462U | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 杨普磊;祖章旭;赵成林 | 申请(专利权)人: | 河北金宏阳太阳能科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/513 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 夏素霞 |
地址: | 054100 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 化学 沉积 镀膜 设备 送气 系统 | ||
1.一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,包括一排支管道(4),所述支管道(4)的一端均和进气管道(3)的一侧连通,所述进气管道(3)和总管道(1)连通,支管道(4)的上方设有一排出气孔(5),其特征在于:所述进气管道(3)的另一侧还设有一排支管道(4),以上构成一组进气装置。
2.根据权利要求1所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,其特征在于:所述支管道(4)对称分布在进气管道(3)的两侧,间隔均匀,支管道(4)上方的出气孔(5)均匀分布。
3.根据权利要求1所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,其特征在于:所述进气管道(3)的前端设置有调节阀门(2)。
4.根据权利要求1、2或3所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,其特征在于:设有2组以上的进气装置,各进气装置的进气管道(3)均与总管道(1)连通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的