[实用新型]一种电容屏用双面镀膜导电玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及导电玻璃技术领域，尤其涉及一种电容屏用双面镀膜导电玻璃。

背景技术

目前，电容屏产品使用非常广泛，而电容屏中的双面镀导电玻璃是其主要器件，双面镀导电玻璃的导电薄膜在性能方面要求比较严，比如均匀性、耐热性能、耐酸碱性能、耐高温高湿性能等；在制作透明电路的时候，由于工艺难度增加，在制作电路时常采用酸刻电路。在制作过程中，容易蚀刻掉不应该刻蚀的部位，并且存在电路蚀刻的蚀痕影迹，影响其电磁屏蔽、静电保护功能，存在的蚀痕影迹会对观看图案产生影响。

实用新型内容

本实用新型的目的正是针对上述现有技术中所存在的不足之处而提供一种电容屏用双面镀膜导电玻璃。

本实用新型的目的可通过下述技术措施来实现：

本实用新型的电容屏用双面镀膜导电玻璃包括有玻璃基板，所述玻璃基板的两个表面分别为锡面和空气面，在玻璃基板的所述锡面上设置有透明钝化层，并在所述透明钝化层上具有方阻为100?的透明导电膜Ⅰ；在玻璃基板的所述空气面上设置有透明消影层，并在所述透明消影层上具有方阻为250?的透明导电膜Ⅱ。

本实用新型所述透明钝化层为透明的二氧化硅层或透明的氮氧化硅层。

本实用新型所述透明消影层为透明的二氧化硅层和透明的五氧化二铌层构成；其中，所述透明的二氧化硅层位于玻璃基板的所述空气面上，在所述透明的五氧化二铌层上设置所述的透明导电膜Ⅱ。

本实用新型所述透明导电膜Ⅰ、透明导电膜Ⅱ均为氧化铟锡导电膜。

本实用新型的有益效果如下：

本实用新型的电容屏用双面镀膜导电玻璃具有的透明钝化层和透明消影层，能够保护氧化铟锡导电膜刻蚀线路，不受制作过程工艺中的酸溶液的蚀刻，避免在制作过程中蚀刻掉不应该刻蚀的部位，在制作过程中使氧化铟锡导电膜刻蚀线路达到设计要求，线间距可达5-10微米；具有良好的电磁屏蔽和消影作用。能够完全代替现有的传统导电玻璃，为下游客户提供低耗能、高均匀性、低成本的电容屏用导电玻璃。

附图说明

图1为是本实用新型的示意图。

图中：1、玻璃基板，2、锡面，3、空气面，4、透明钝化层，5、透明导电膜Ⅰ，6、透明消影层，7、透明导电膜Ⅱ。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细说明。

如图1所示，一种电容屏用双面镀膜导电玻璃，包括有玻璃基板1，所述玻璃基板1的两个表面分别为锡面2和空气面3，在玻璃基板的所述锡面2上设置有透明钝化层4，并在所述透明钝化层4上具有方阻为100?的透明导电膜Ⅰ5；在玻璃基板的所述空气面3上设置有透明消影层6，并且在所述透明消影层6上具有方阻为250?的透明导电膜Ⅱ7。所述玻璃基板1为0.4mm厚的超白平板玻璃。

所述透明钝化层4为透明的二氧化硅层或透明的氮氧化硅层。所述透明消影层6为透明的二氧化硅层和透明的五氧化二铌层构成；其中，所述透明的二氧化硅层位于玻璃基板的所述空气面3上，在所述透明的五氧化二铌层上设置所述的透明导电膜Ⅱ7。

所述透明导电膜Ⅰ5、透明导电膜Ⅱ7均为氧化铟锡导电膜，氧化铟锡导电膜的厚度为25nm±1nm。

所述透明钝化层4直接设置在所述玻璃基板1上，用于防止位于其上部的氧化铟锡导电膜与所述玻璃基板1发生扩散，影响光学及电学性质。所述氧化铟锡导电膜用于制作各种透明导电线路。所述透明消影层6 用于消除刻蚀导电线路对显示图案的影响。