[实用新型]一种柔性面板连续无掩膜光刻装置

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种柔性面板连续无掩膜光刻方装置。

【背景技术】

随着技术节点的不断缩小，掩膜版价格在芯片制造中的成本比重越来越不容小觑。以45nm掩膜版为例，其价格大约在600万美元上下，而一套22nm工艺的掩膜版成本预计在900到1440万美元。不断攀升的成本为研发带来了巨大的压力，也使得无掩膜光刻作为新兴的技术引起了人们的广泛关注。

无掩膜光刻是一类不采用光刻掩膜版的光刻技术，即采用光束直接在硅片上制作出需要的图形。采用光束直接进行光刻的优点是分辨率高；无掩膜光刻作为一种可与光学光刻相比拟的新技术，它能帮助半导体器件制造商建立起一套新的工艺，从而更快地完成从设计到将图形制作在晶圆上的过程。

目前光刻行业的光刻系统只能对有限的面积或大小有限的基板进行制备，在制备过程中要多次地对光刻板块进行人工配置；现有的无掩膜光刻系统能做到的可以实现对大面板处理。但是对于柔性电容传感器及柔性显示面板的现有的无掩膜光刻技术无法满足。

【实用新型内容】

本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种能连续无掩膜光刻柔性面板的柔性面板连续无掩膜光刻装置。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种用于柔性面板连续无掩膜光刻方法的柔性面板连续无掩膜光刻装置，其特征在于：包括基座1，所述的基座1上设有光刻基板2，所述的光刻基板2上方设有光刻组件3，所述的光刻基板2的两侧分别设有卷出装置4和收卷装置5，所述的光刻基板2上设有抽气定位孔201，所述的光刻基板2的下方设有与所述的抽气定位孔201相通的抽吸装置6。

如上所述的柔性面板连续无掩膜光刻装置，其特征在于：所述的光刻基板2为方形，四个角上分别设有与柔性面板上的对准标识相对应的基板标识块205。

如上所述的柔性面板连续无掩膜光刻装置，其特征在于：所述的光刻组件3包括设置于所述的光刻基板2上方的分束镜309，所述的分束镜309一侧设有图像透镜310，所述的图像透镜310另一侧连接有对准相机311，所述的分束镜309的上方连接有光学镜头312，所述的光学镜头312上方设有空间光调制器303，所述的空间光调制器303右下侧设有反射镜片304，空间光调制器303左下侧设有半透半反分束镜308，所述的半透半反分束镜308的正上方设有准直透镜302，所述的准直透镜302的正上方设有半反光源305，所述的半透半反分束镜308的左侧设有光准直和均匀化装置307，所述的光准直和均匀化装置307通过光纤306连接有光源301。

如上所述的柔性面板连续无掩膜光刻装置，其特征在于：所述的卷出装置4缠绕有柔性面板带的卷出卷轮401，在所述的卷出卷轮401光刻基板2之间顺次设有进口辊轮轨道402和进口轧辊403，所述的辊轮轨道402上设有能相对所述的辊轮轨道402上下移动辊轮404。

如上所述的柔性面板连续无掩膜光刻装置，其特征在于：所述的收卷装置5包括用于收卷柔性面板带的收卷卷轮501，所述的收卷卷轮501与所述的光刻基板2之间顺次设有支撑辊502、出口辊轮503、出口辊轮轨道504，所述的出口辊轮轨道504上设有出口轧辊505。

如上所述的柔性面板连续无掩膜光刻装置，其特征在于：所述的支撑辊502与出口辊轮503之间设有保护膜成形与干燥装置506，所述的保护膜成形与干燥装置506包括喷雾装置561和干燥装置562。

与现有技术相比，本实用新型有如下优点：

本实用新型才用拟成像于柔性板上的图像分割为n帧图像，连续光刻，实现了柔性面板的无掩膜连续光刻。降低了生产成本，提高了生产效率。并在曝光后经过保护膜成形与干燥系统对曝光后的柔性电容传感器或柔性显示面板进行加制保护膜，提高成品率。

【附图说明】

图1是本实用新型结构原理示意图；

图2是本实用新型光刻基板俯视图；

图3是本实用新型柔性薄膜预加工后的截面图；

图4：是本实用新型柔性薄膜预加工帧分布俯视图。

【具体实施方式】

一种用于柔性面板连续无掩膜光刻方法的柔性面板连续无掩膜光刻装置，包括基座1，所述的基座1上设有光刻基板2，所述的光刻基板2上方设有光刻组件3，所述的光刻基板2的两侧分别设有卷出装置4和收卷装置5，所述的光刻基板2上设有抽气定位孔201，所述的光刻基板2的下方设有与所述的抽气定位孔201相通的抽吸装置6。