[实用新型]悬吊式精密对位平台有效
申请号: | 201320217342.X | 申请日: | 2013-04-25 |
公开(公告)号: | CN203390546U | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 庄运清;陈伟伦 | 申请(专利权)人: | 高明铁企业股份有限公司 |
主分类号: | B23Q1/25 | 分类号: | B23Q1/25 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 王晶 |
地址: | 中国台湾彰化*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 悬吊 精密 对位 平台 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种对位平台装置,特别涉及一种能于不影响工件输送状态为前提下,而针对输送中工件调校加工精准度的创新精密对位平台。
背景技术
按,随着高科技时代的来临,多种制造加工的处理模式已进入奈米等级,众多精密产品于制程中有更高更严苛的精度要求,尤其是光电及晶圆产品,其精密定位技术成为必备条件。
精密加工制程中,对位平台(或称对位滑台)为产业界普遍采用的设备;目前习知对位平台的典型结构型态,主要是在一活动平台与一基座之间横设有数组X轴向与Y轴向的螺杆导动装置,螺杆导动装置的组装座部被定位于基座,螺杆导动装置的伸缩作动端则呈滑动配合状态连结于活动平台;藉此,其运作时能够通过控制螺杆导动装置的其中单组作动或整体同动等方式,达到驱使活动平台位移或转动以调校加工精准度的目的。
以一般习知对位平台的使用型态而言,通常是将基座组装于一默认位置呈定位状态,并将工件置放于活动平台上方,再通过活动平台位移作动而带动工件位移,以调校工件与刀具之间的加工位置;惟,此种习知对位平台使用上固然可达到精密位移调校的功能,但若运用于精密冲压加工的场合时,会产生不利调校、甚至无法调校工件位置的缺弊,举LCD面板产业的精密加工为例,通常先将被工作物锁设定位于活动平台上,通过导动装置驱使活动平台位移,以调校被工作物至正确加工位置,使刀具能由上向下进行冲压加工动作,但习知对位平台运用于此种加工型态时,必须于每一个被工作物加工完毕取下后,再放置下一被工作物重新进行调校加工位置、公差等流程,导致加工便利性、加工效率不佳以及不利调整的缺弊产生;而随着LCD面板业界发展进步,当所谓被工作物变为成卷的光学薄膜时,其送料方式将光学薄膜摊开而不断进行卷收输送,刀具同样于固定位置进行冲压动作,此时习知利用活动平台位移作动而 调校工件的结构设计,无法于被工作物移动状态下调校位置来配合刀具加工位置,进而导致无法使用的窘境,使得产品的实用性大打折扣,亦会影响加工的便利性与加工效率,且对于必须大量生产的加工场合而言更显得不利,实难以符合产业界预期的使用要求。
发明内容
本实用新型的主要目的在于提供一种悬吊式精密对位平台。
为达到上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种所述精密对位平台包括:一顶座,为座体,该座体包括一顶部装配面以及一构件装设面;一悬吊式活动平台,呈悬吊型态设置于顶座的构件装设面下方一间隔高度位置处,该悬吊式活动平台包括一刀具装设台面以及一顶面,所述刀具装设台面能提供预定的刀具组设,进而能对设置于悬吊式活动平台间隔下方的工件进行加工;至少两组导动装置,连接于顶座的构件装设面与悬吊式活动平台的顶面之间,导动装置藉以驱使控制悬吊式活动平台产生平移调整运动;一可控制式磁吸接口,包括设于顶座的构件装设面与悬吊式活动平台顶面之间相对位处的一导磁面域与一磁吸座,该磁吸座能够通过控制朝导磁面域产生一磁吸作用力,令悬吊式活动平台相对于顶座的定位状态能够通过磁吸作用力而趋于刚性稳固状态;
一气浮间隙,设置于磁吸座与导磁面域之间,且令磁吸座的预定部位形成一气体导引部连通该气浮间隙,藉以能自外部将气压经由气体导引部导引喷入气浮间隙中产生气浮作用,使得磁吸座与导磁面域之间产生间隙而呈可相对运动调整状态;
藉此创新独特设计,使本实用新型对照先前技术而言,能在不影响工件输送状态为前提下,直接通过移动调整悬吊式活动平台以调校刀具至正确加工位置,以使刀具每次进行加工动作时皆能保持正确位置,藉以能针对输送中的工件调校加工精准度,以达到大幅提升加工便利性与加工效率,并利于大量生产的加工场合。
附图说明
图1为本实用新型结构较佳实施例的分解立体图。
图2为本实用新型结构较佳实施例的组合立体图。
图3为本实用新型结构较佳实施例的组合剖视图。
图4为本实用新型装设于设备上的使用状态图。
图5为本实用新型的磁吸座内部结构立体剖视图。
图6为本实用新型可通过喷气孔将气压喷入气隙中形成气浮作用的状态示意图。
图7为本实用新型磁吸作用的状态示意图。
图8为本实用新型装设有防落构件的实施型态局部放大图。
图9为本实用新型装设有防落构件的平面图。
具体实施方式
如图1至7所示,本实用新型悬吊式精密对位平台A包括下述构成:
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