[实用新型]利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置

权利要求书

1.一种利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置，其特征在于，包括离子束溅射装置和准直过滤装置，所述准直过滤装置与所述离子束溅射装置的样品架连接，所述准直过滤装置包括：圆盘、若干过滤网和多个圆环，所述圆盘的下表面与所述样品架连接，所述各圆环依次重叠设置在所述圆盘上表面，所述过滤网设置在所述各圆环之间。

2.根据权利要求1所述的利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置，其特征在于，所述圆盘和圆环上均设置有开孔，所述圆盘和圆环通过所述开孔由螺钉固接至所述样品架。

3.根据权利要求1所述的利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置，其特征在于，所述过滤网的数量为一个，所述圆环的数量为两个；或所述过滤网的数量为两个，所述圆环的数量为三个。

4.根据权利要求1所述的利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置，其特征在于，所述圆盘的直径为4英寸，厚度为3mm。

5.根据权利要求1所述的利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置，其特征在于，所述过滤网为正方形，且所述过滤网的网孔为六角形结构。

6.根据权利要求5所述的利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置，其特征在于，所述过滤网的厚度为50μm，边长为50mm，中心网孔部分直径为42mm，网孔孔径为100μm，肋宽为40～50μm。

7.根据权利要求1所述的利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置，其特征在于，所述圆环外径为4英寸，内径为45mm，厚度为3mm。

8.根据权利要求1至7任一项所述的利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置，其特征在于，所述圆盘、过滤网和圆环均采用不锈钢材料制成。