[实用新型]光学玻璃取样装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种取样装置，特别是涉及一种光学玻璃的取样装置。

背景技术

在光学玻璃生产过程中，光学玻璃的折射率值是一个极其重要的参数，它能够及时反应产品质量，通过数据反馈可以对产品质量进行现场监控和动态调整。因此折射率值在光学玻璃的生产过程中起着重要的作用。

长期以来，关于光学玻璃的取样都没有一个规范及标准的规定，不同的操作者在取样时采用不同的方法，致使样品的冷却速度及冷却时间不尽相同，导致最后测出的样品的折射率值存在一些差距，甚至有的样品折射率值严重偏离目标值，即使是同一个人在不同的时间取样时也会出现数值上的差异。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能够保证取样一致性的光学玻璃的取样装置。

本实用新型解决技术问题所采用的技术方案是：光学玻璃取样装置，包括控制系统、控温装置和升降系统，所述控制系统控制所述升降系统和控温装置，所述控温装置控制所述升降系统内的样品的温度。

进一步的，所述控温装置为可控硅。

进一步的，所述升降系统包括第一气缸、第二气缸、第三气缸、第一顶杆、第二顶杆、第三顶杆、第一支撑板、第二支撑板和样品容器，所述第一气缸和第二气缸固定于支承座上，在所述第一气缸上设置第一顶杆，在所述第二气缸上设置第二顶杆，所述第一支撑板设置在第一顶杆和第二顶杆的下端，所述第二支撑板设置在第一顶杆和第二顶杆的上端，所述样品容器固定在第二支撑板上，所述第三气缸固定在第一支撑板上，设置在所述第三气缸上的第三顶杆伸入样品容器内。

进一步的，在所述控制系统上设置有控制开关，所述控制开关分为放样、保温和取样三个档位。

本实用新型的有益效果是：通过控温装置，样品在样品容器内具有相同的降温速率，相同的组织结构变化，相同的力学性能变化和相同的光学性能变化，因此能够保证取样一致性，特别对连续池炉产品数据的及时监控和调整起着极其重要的作用。

附图说明

图1是本实用新型的控制框图。

图2是本实用新型的升降系统的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型的取样装置包括控制系统、控温装置和升降系统。控制系统控制升降系统和控温装置的工作，控温装置控制升降系统内的样品的温度，具体可以对样品进行加热到一定温度，并能保温、按一定速率降温。本实用新型的控温装置可采用可控硅。

本实用新型的升降系统如图2所示，第一气缸1和第二气缸2固定于支承座4上，在第一气缸1上设置第一顶杆5，在第二气缸2上设置第二顶杆6，第一支撑板7设置在第一顶杆5和第二顶杆6的下端，第二支撑板8设置在第一顶杆5和第二顶杆6的上端，样品容器10固定在第二支撑板8上，第三气缸3固定在第一支撑板7上，设置在第三气缸3上的第三顶杆9伸入样品容器10内，可在样品容器10内上下自由移动，样品置于样品容器10内，第一气缸1、第二气缸2、第三气缸3及控温装置通过控制系统控制，控制系统的控制开关分为“放样”、“保温”和“取样”三个档位。

工作时，先将控制开关位于“放样”位置，第一气缸1和第二气缸2开始工作，将第一顶杆5和第二顶杆6同时向上顶起，这时，第三气缸3不工作，在第一支撑板7和第二支撑板8的带动下，样品容器10顶出退火炉11(图1中退火炉11是剖面图)上方开口处，此时将样品放入样品容器10内，放样结束后将控制开关位于“保温”位置，第一气缸1和第二气缸2排气带动第一顶杆5、第二顶杆6和第二支撑板8下降至初始位置，同时退火炉11的炉盖(图1中未画出)关闭，这时第一气缸1、第二气缸2和第三气缸3均不工作，样品容器10和第二支撑板8均位于退火炉11的炉腔内，退火炉11在控温装置的控制下按设定温度保温；保温结束后，将控制开关位于“取样”位置，第一气缸1和第二气缸2吸气将第一顶杆5、第二顶杆6、第一支撑板7、第二支撑板8、第三气缸3一起顶起，同时炉盖打开，样品容器10顶出退火炉11上方开口处，之后第一气缸1和第二气缸2维持该状态不变，第三气缸3开始工作，将第三顶杆9向上顶起，然后将样品容器10内盛放的样品顶出样品容器10，操作者可开始执行取样操作。