[实用新型]不用分散剂、湿转干法生产超细纳米干粉的装置有效
申请号: | 201320204669.3 | 申请日: | 2013-04-22 |
公开(公告)号: | CN203170426U | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 薛运河 | 申请(专利权)人: | 薛运河 |
主分类号: | B02C21/00 | 分类号: | B02C21/00;F26B7/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人: | 成钢 |
地址: | 443002*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 不用 分散剂 转干 生产 纳米 干粉 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及纳米材料生产领域;具体为一种不用分散剂、湿转干法生产超细纳米干粉的装置。
背景技术
我国在粉体材料的加工上还落后于国际水平,虽然我国的863计划在粉体设备的研究上已突破5000-8000目的生产设备,但与发达国家相比还有较大差距。特别是纳米材料的生产方面,我国一些企业采用中外设备结合的方法。到目前为止,在所公开的资料分析,我国生产纳米材料的企业,以湿式纳米产品出现的粒度在D90-500nm以下的有几家,而干式纳米出现D97-900nm干粉仅佛山安亿纳米材料有限公司有公开报道。
现有技术中,采用湿法生产纳米材料时,须加入分散剂防止物料的结团,但加入分散剂的产品会限制其在高科技行业的应用。
采用干法生产纳米材料时,由于在生产设备中增设分级部件会提高投资成本,增加维修成本;而且干法生产中设备研磨产生高温,设备能耗和零部件损耗都较大。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种不用分散剂、湿转干法生产超细纳米干粉的装置,采用超低温、高真空升华干燥技术,使湿法研磨时产品中不需加分散剂也不会结团,生产的纳米材料能够达到世界先进水平。
为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种不用分散剂、湿转干法生产超细纳米干粉的装置,包括依次连接的搅拌配料桶、研磨系统、半成品浆料预热搅拌储槽、蒸发系统及真空冷冻干燥机。
所述的研磨系统由多级循环研磨系统串联而成,每级循环研磨系统设有研磨机和缓冲储料桶,研磨机的缸体采用陶瓷缸体制成。
所述蒸发系统由多台蒸发器串联而成。
所述蒸发器设有余热管,余热管与半成品浆料预热搅拌储槽和/或真空冷冻干燥机连接。
所述真空冷冻干燥机设有真空升华腔室,该腔室连接真空泵,干燥器的外壳由冷冻管、保温层、加热管壳体组成,冷冻管连接制冷机。
现有的单台湿法循环纳米粉体材料研磨机将精矿砂从粒度几毫米研磨至几十至几百纳米,粉碎比高达几千乃至几万倍,研磨介质粒径由25mm-0.02mm相差几千倍,中间分几个级别更换研磨介质(一般高纯度物质的研磨选用高强度耐磨钇稳定氧化锆珠),按粒度尺寸分为若干级别,如本实用新型申请专利前所做实验,研磨高纯度精矿砂(硬度4.1,进料粒径2-6mm,分为四级分段研磨,如2.0mm,0.8 mm,0.4 mm,0.2 mm,0.05 mm),从大到小,每级研磨35-50分钟左右后,需更换研磨介质,每次更换下一级磨介时费时达一个小时,从开始到最后一级,每批产品需时间长达9个多小时。为克服单台设备更换研磨介质时间长的缺陷,本实用新型设计并提供了一个按研磨介质粒径大小分装的多级循环研磨系统,组成一种可连续研磨的流态化床湿法研磨系统。当第一批料研磨完成达到设定粒度后,将浆料输出送到第二级,再加工下一批料,一级一级下去,依次类推批量生产时,每批产品仅需80-100分钟左右,比原来单循环磨效率提高了3至4倍。
本实用新型所得的产品采用超低温、高真空升华干燥系统进行干燥,由于采用的原料均为不溶于水的物质,通过将水结冰后,从固体在真空(即负压)状态下,直接变成气态分子,通过真空机不断在冰的表面形成负压的能量,将冰升华除掉。使用这种干燥方法,蒸发的水分子做布朗运动,这对除去非金属矿粉固体表面的水分子非常彻底;而且这种升华干燥对纳米粉料没有挤压作用,且水分去除的比较完全,物料粉体相当的蓬松,因而它无需使用分散剂,产品质量可以大大提高;一般湿粉干燥用其它方法、产品要增加4%左右的分散剂杂质,对产品在高科技行业应用受到限制。如本方法生产的产品,在计算机蕊片涂层材料的应用上,将提高计算机电子元器件的品质,提升计算机运行速度,对计算机元器件的科技创新有着重大意义,可见本实用新型提供的方法及装置能够给纳米粉体材料领域带来跨越式的进步及快速的发展。
本实用新型有效地利用了湿法纳米生产中容易磨细的优点,解决了干燥后,不加分散剂不结团的技术问题;降低了在干法生产中需设备中增设分级部件而提高投资成本,增加维修成本等缺点;克服了干法生产中设备研磨产生高温,设备能耗和零部件损耗都较大的固有缺点。
本实用新型提供的方法及装置在生产过程无废水、废气排放,可做到环境零污染,噪声可控制在55db以下,有效地保护了环境。
附图说明
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。
图1为本实用新型所述装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例来进一步说明本实用新型,但实施例仅在于说明本实用新型,而不是对其进行限制。
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