[实用新型]石膏模型室反向下水式灌模装置有效

专利信息
申请号: 201320172970.0 申请日: 2013-04-09
公开(公告)号: CN203149994U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 蔡毅;宋宇哲;陈金锐;李红;张振波;石璐 申请(专利权)人: 蔡毅
主分类号: G09B25/02 分类号: G09B25/02
代理公司: 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 代理人: 王怡敏
地址: 130031 吉林省*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 石膏 模型 反向 下水 式灌模 装置
【权利要求书】:

1.一种石膏模型室反向下水式灌模装置,其特征在于:一、二、三级水池(1、2、3)置于灌模室中央,对立两排,在一、二、三级水池(1、2、3)的侧边分别设置伸缩式操作台(4),在对立两排水池中间设置风干平台(5),在风干平台(5)的两侧设置水源孔(6)与水龙头连接;在一、二级水池(1、2)的一端分别设置过滤下水口Ⅰ、Ⅱ(7、8),在二、三级水池(2、3)的底面分别设置过滤下水口;所述一级水池的下水口端高于另一端1~3cm。

2.根据权利要求1所述的石膏模型室反向下水式灌模装置,其特征在于:所述的过滤下水口Ⅰ(7)距离一级水池(1)底面的高度为0cm。

3.根据权利要求1所述的石膏模型室反向下水式灌模装置,其特征在于:所述的过滤下水口Ⅱ(8)距离二级水池(2)底面的高度为5cm。

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