[实用新型]石膏模型室反向下水式灌模装置有效
申请号: | 201320172970.0 | 申请日: | 2013-04-09 |
公开(公告)号: | CN203149994U | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 蔡毅;宋宇哲;陈金锐;李红;张振波;石璐 | 申请(专利权)人: | 蔡毅 |
主分类号: | G09B25/02 | 分类号: | G09B25/02 |
代理公司: | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 | 代理人: | 王怡敏 |
地址: | 130031 吉林省*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石膏 模型 反向 下水 式灌模 装置 | ||
1.一种石膏模型室反向下水式灌模装置,其特征在于:一、二、三级水池(1、2、3)置于灌模室中央,对立两排,在一、二、三级水池(1、2、3)的侧边分别设置伸缩式操作台(4),在对立两排水池中间设置风干平台(5),在风干平台(5)的两侧设置水源孔(6)与水龙头连接;在一、二级水池(1、2)的一端分别设置过滤下水口Ⅰ、Ⅱ(7、8),在二、三级水池(2、3)的底面分别设置过滤下水口;所述一级水池的下水口端高于另一端1~3cm。
2.根据权利要求1所述的石膏模型室反向下水式灌模装置,其特征在于:所述的过滤下水口Ⅰ(7)距离一级水池(1)底面的高度为0cm。
3.根据权利要求1所述的石膏模型室反向下水式灌模装置,其特征在于:所述的过滤下水口Ⅱ(8)距离二级水池(2)底面的高度为5cm。
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