[实用新型]一种应用在消化炉上的消化管防爆装置有效

专利信息
申请号: 201320162187.6 申请日: 2013-04-03
公开(公告)号: CN203148761U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 夏瑛;黄莺 申请(专利权)人: 上海沛欧分析仪器有限公司
主分类号: G01N1/44 分类号: G01N1/44
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 代理人: 曾少丽
地址: 201506 上海市金*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 应用 消化 防爆 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型是指一种消化管防爆装置,特别是指一种应用在消化炉上的消化管防爆装置。

背景技术

消化炉是一种在高温下工作的高能耗设备,在现有技术中,在强氧化剂对样品的作用下,消化管内会有气泡产生,样品会飞溅爆浮,产生挂壁现象,造成消化不彻底,效率偏低,消化管的清洗不便。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中一种应用在消化炉上的消化管所存在的缺陷,提供一种应用在消化炉上的消化管防爆装置来解决上述问题。

为了实现上述目的,本实用新型的技术方案如下:

一种应用在消化炉上的消化管防爆装置,包括消化管,所述消化管内设有小玻璃珠、大玻璃珠,所述消化管底部还设置有防爆器,所述防爆器包括上圆台、下圆台和中圆柱,所述上圆台的截面与中圆柱一端相连,所述下圆台截面与中圆柱另一端相连,所述下圆台罩在大玻璃珠上,所述小玻璃珠铺设在防爆器的中圆柱外侧四周。

上述的一种应用在消化炉上的消化管防爆装置,其特征在于:所述下圆台下边沿设有4个豁口,所述下圆台底面直径小于上圆台底面直径3mm~5mm,所述下圆台底面边沿贴靠消化管底部内壁。

上述的一种应用在消化炉上的消化管防爆装置,其特征在于:所述上圆台体面上设有4个孔洞,所述上圆台底面的直径小于消化管内径1mm~4mm。

上述的一种应用在消化炉上的消化管防爆装置,其特征在于:所述小玻璃珠的直径为1mm~5mm,所述小玻璃珠的数量为若干个。

上述的一种应用在消化炉上的消化管防爆装置,其特征在于:所述大玻璃珠直径大于中圆柱直径2mm~3mm。

本实用新型的有益效果为:样品在消化状态下,有效的大量的破坏样品产生的气泡,样品的消化更加彻底,提高了消化程度,改善了样品飞溅挂壁的产生,同类样品消化至少节约30%左右的时间,工作效率提高,同时也节约了大量能耗,消化管清洗更加便利。

附图说明

图1是本实用新型的正视图。

图100-消化管、图200-防爆器、图210-下圆台、图220-中圆柱、图230-下圆台、图300-豁口、图400-孔洞、图500-小玻璃珠、图600-大玻璃珠。

具体实施方式:

为使对本实用新型的结构特征及所达成的功效有更进一步的了解与认识,用以较佳的实施例及附图配合详细的说明,说明如下:

参看图1,一种应用在消化炉上的消化管防爆装置,所述消化管100内设有小玻璃珠500、大玻璃珠600,所述消化管100底部还设置有防爆器200,所述防爆器200包括上圆台210、下圆台230和中圆柱220,所述上圆台210与下圆台230是用一个平行于圆锥底面的平面去截圆锥,底面与截面之间的部分,所述上圆台210的截面与中圆柱220一端相连,所述下圆台230截面与中圆柱220另一端相连,所述下圆台230罩在大玻璃珠600上,所述小玻璃珠500铺设在防爆器200的中圆柱外侧四周,所述下圆台230下边沿设有4个豁口300,所述下圆台230底面直径小于上圆台210底面直径3mm~5mm,所述下圆台230底面边沿贴靠消化管100底部内壁,所述上圆台210体面上设有4个孔洞400,所述上圆台210底面的直径小于消化管100内径1mm~4mm,所述小玻璃珠500的直径为1mm~5mm,数量为若干个,所述大玻璃珠600直径大于中圆柱220直径2mm~3mm。

参看图1,在高温的工作状态下,由于强氧化剂对样品的作用,导致消化管100内有气泡产生,样品会飞溅爆浮,此时大玻璃珠600堵住了样品从下圆台230底面的爆出,若干个堆积在防爆器200外侧四周的小号玻璃珠500封住防爆器200四周,有效的大量的破坏了样品气泡的产生,此时下圆台底面边沿贴靠在消化管100底部内壁的防爆器也可以破坏消化管100内产生的气泡,从而有效的控制了样品沸腾的高度,将样品有效的控制在一定的范围内消化;在消化过程中,产生的有害气体大部分的有害气体通过下圆台230的豁口300向防爆器100的四周流动,少部分气体通过中圆台120,此时所产生的气体通过上圆台230的几个孔洞400被消化管100的外置装置抽走,经过一定时间(1-2小时)后样品自动消化彻底。

综上所述,仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非用来限定本实用新型实施的范围,凡依本实用新型权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰,均应包括于本实用新型的权利要求范围内。

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