[实用新型]一种用于喷嘴维护中的隔热装置有效
申请号: | 201320157860.7 | 申请日: | 2013-04-01 |
公开(公告)号: | CN203174198U | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 沈建飞 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 喷嘴 维护 中的 隔热 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及低压化学气相沉积技术领域,特别是涉及低压化学气相沉积中的附件中的辅助设备领域,具体为一种用于喷嘴维护中的隔热装置。
背景技术
低压化学气相沉积(LPCVD)在低于一个大气压的条件下进行的化学气相沉积,低压化学气相沉积技术被广泛用于沉积多晶硅及各种无定形介质膜。LPCVD法具有生长速度快,成膜致密、均匀,装片容量大等一系列优势。因此,多晶硅及氮化硅膜的沉积现已基本采用LPCVD法。
低压化学气相沉积装置通常由下列部件组成;反应物供应系统,气相反应器,气流传送系统。反应物多为金属氯化物,先被加热到一定温度,达到足够高的蒸汽压,用载气(一般为Ar或H2)送入反应器。如果某种金属不能形成高压氯化物蒸汽,就代之以有机金属化合物。在反应器内,被涂材料或用金属丝悬挂,或放在平面上,或沉没在粉末的流化床中,或本身就是流化床中的颗粒。化学反应器中发生,产物就会沉积到被涂物表面,废气(多为HCl或HF)被导向碱性吸收或冷阱。
在LPCVD多晶硅薄膜淀积工艺中,常需要定期对气相反应器中的喷嘴进行保养,进行定期更换以防止断裂。但是由于为了不产生多晶硅薄膜的剥落,对气相反应器中的喷嘴的保养或更换需要在摄氏300C以上的高温作业。维护安装人员站在气相反应器的机台下面进行拆除喷嘴和安装喷嘴的作业。这样就存在下面两个问题:
1.大量的气相反应器中内管内的高温会向下辐射,导致作业人员不能长时间站立在气相反应器下面,同时站立在气相反应器下面也存在可能被烫伤的危险。
2.作业时有可能拆除下来的喷嘴会断裂而导致下面作业人员受伤。
目前在LPCVD对喷嘴做保养维护的时候,普遍的做法是手上戴隔热手套进行拆除和安装,但是隔热手套只能保护手部不会被烫伤。因此需要一种隔热装置来确保在对喷嘴做保养维护的时候下面作业人员的安全作业。
实用新型内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种用于喷嘴维护中的隔热装置,用于解决现有技术中在对喷嘴做保养维护的时存在的不能很好保护作业人员人身安全的问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种用于喷嘴维护中的隔热装置,安装在气相反应器中,包括:隔热盘,边缘具有一用于所述气相反应器中的喷嘴通过、为所述喷嘴的安装或拆卸预留空间的缺口;所述隔热盘的中心设有一通孔;玻璃片,与所述隔热盘中的通孔相匹配以通过该玻璃片察看喷嘴的状态;进水连接头,设置在所述隔热盘的表面,用于连接进水管和机台进水接头;出水连接头,设置在所述隔热盘的表面,用于连接出水管和机台出水接头。
可选地,所述隔热盘外缘设有用于与所述气相反应器连接固定的螺丝孔。
可选地,所述螺丝孔的数量为4个。
可选地,所述隔热盘中心的通孔为方形,所述玻璃片为与所述通孔相配的方形玻璃片。
可选地,所述隔热盘中心的通孔为圆形,所述玻璃片为与所述通孔相配的圆形玻璃片。
可选地,所述通孔的面积小于所述通孔外缘和所述隔热盘外缘所形成的面积。
可选地,所述缺口为弧形口。
可选地,所述缺口为方形口。
可选地,所述隔热盘为由发泡涂料、泡沫塑料、超细玻璃棉、高硅氧棉或真空隔热材料形成的隔热板。
如上所述,本实用新型的一种用于喷嘴维护中的隔热装置,具有以下有益效果:
1、本实用新型通过设计一个具有隔热功能的隔热装置,并将具有隔热功能的隔热装置安装到内管支架中,阻隔内管辐射下来的热量,避免了使站在气相反应器下面的作业人员避免高温带来的危险和伤害,所以本实用新型有效解决了现有技术中在对喷嘴做保养维护的时存在的不能很好保护作业人员人身安全的问题。
2、本实用新型的隔热装置设有一个透明的玻璃片,使得站在气相反应器下面的作业人员可以随时观察气相反应器内喷嘴的状况。
3、本实用新型结构简单,不需要额外的隔热材料,成本低。
4、本实用新型的设有与气相反应器中机座上的冷却水接头相配的冷却水接头,提高冷却效果。
附图说明
图1显示为本实用新型的一种用于喷嘴维护中的隔热装置的安装使用示意图。
图2显示为本实用新型的一种用于喷嘴维护中的隔热装置的结构示意图。
元件标号说明
1 隔热装置
11 隔热盘
12 玻璃片
13 缺口
14 进水连接头
15 出水连接头
16 螺丝孔
2 气相反应器
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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