[实用新型]一种静涡旋盘组件及具有其的涡旋压缩机

权利要求书

1.一种静涡旋盘组件，包括：

静涡旋盘，所述静涡旋盘具有静盘第一表面、静盘第二表面和从所述静盘第一表面延伸到所述静盘第二表面的第一中间通路，所述静盘第一表面还设置有第二中间通路，所述第一中间通路与所述第二中间通路连通；

盖板，所述盖板具有盖板第一表面，所述盖板第一表面覆盖在所述静盘第一表面上，所述盖板还设置有盖板补气孔，所述盖板补气孔与所述第二中间通路连通。

2.根据权利要求1所述的静涡旋盘组件，其特征在于，所述静盘第一表面设置有环形凹槽，所述环形凹槽中设置有密封件。

3.根据权利要求2所述的静涡旋盘组件，其特征在于，所述环形凹槽包括第一环形凹槽和第二环形凹槽，所述第二中间通路设置在所述第一环形凹槽和所述第二环形凹槽之间。

4.根据权利要求1所述的静涡旋盘组件，其特征在于，所述盖板具有盖板第二表面，所述盖板第二表面设置有阻挡压缩机阀片的阻挡装置。

5.一种涡旋压缩机，包括权利要求1-4任一项所述的静涡旋盘组件，其特征在于，还包括中间补气管，所述中间补气管一端与所述盖板补气孔连通，另一端与补气源连通。

6.根据权利要求5所述的涡旋压缩机，其特征在于，还包括防回流装置，所述防回流装置一端与所述中间补气管连通，另一端与所述盖板补气孔连通。

7.根据权利要求6所述的涡旋压缩机，其特征在于，所述防回流装置包括筒体，所述筒体一端开设有回流孔，所述筒体内设有弹性部件及封堵部件，所述封堵部件可选择的封堵或者打开所述回流孔。

8.一种静涡旋盘组件，包括：

静涡旋盘，所述静涡旋盘具有静盘第一表面、静盘第二表面和从所述静盘第一表面延伸到所述静盘第二表面的第一中间通路，所述静盘第一表面还设置有第二中间通路，所述第一中间通路与所述第二中间通路连通；所述静涡旋盘还包括静盘流体通路，所述静盘流体通路的一端与所述第二中间通路连通，另一端与静涡旋盘外部连通；

盖板，所述盖板具有盖板第一表面，所述盖板第一表面覆盖在所述静盘第一表面上。

9.根据权利要求8所述的静涡旋盘组件，其特征在于，所述静盘第一表面设置有环形凹槽，所述环形凹槽中设置有密封件。

10.根据权利要求9所述的静涡旋盘组件，其特征在于，所述环形凹槽包括第一环形凹槽和第二环形凹槽，所述第二中间通路设置在所述第一环形凹槽和所述第二环形凹槽之间。

11.根据权利要求8所述的静涡旋盘组件，其特征在于，所述盖板具有盖板第二表面，所述盖板第二表面设置有阻挡压缩机阀片的阻挡装置。

12.一种涡旋压缩机，包括权利要求8-11任一项所述的静涡旋盘组件，其特征在于，还包括中间补气管，所述中间补气管一端与所述静盘流体通路连通，另一端与补气源连通。

13.一种涡旋压缩机，包括权利要求8-11任一项所述的静涡旋盘组件，其特征在于，还包括中间补气管、第三流体通路，所述第三流体通路设置在涡旋压缩机的上支架内，所述中间补气管一端与第三流体通路连通，另一端与补气源连通，所述第三流体通路另一端与所述静盘流体通路连通。