[实用新型]双胶辊展平机构有效

专利信息
申请号: 201320149651.8 申请日: 2013-03-29
公开(公告)号: CN203173569U 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 林潮群 申请(专利权)人: 广东东南薄膜科技股份有限公司
主分类号: B65H23/025 分类号: B65H23/025
代理公司: 汕头市潮睿专利事务有限公司 44230 代理人: 郭晓刚;俞诗永
地址: 515000 广东省汕头市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 双胶辊展平 机构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种真空镀铝膜制品的加工设备,更具体地说涉及一种双胶辊展平机构。

背景技术

由于近年来真空镀铝膜在包装的应用上,有大幅度增长,市场得到迅速扩大。主要原因在于真空镀铝膜制品的技术因素及加工因素、环保因素。由于真空镀铝膜制品具有很高的金属光泽、良好的反射性,并能提高材料的阻隔性和导电性。在包装中使用真空镀铝膜制品能与油墨形成强烈的色彩反差,增强产品的美观,并可避免因静电造成的质量问题,延长产品的保存期。真空镀铝膜制品消耗的主要是电力,生产过程中不会产生废气、废水。残留物氧化铝可以回收再利用,符合环保要求。目前,国内外真空镀铝膜制品向宽幅化、自动化、高速化发展。

随着我国生活水平的提高,社会对包装印刷品的质量要求越来越高,尤其在光泽度、立体感、色彩、金属感上要有良好的感官效果,能凸现出包装产品质量和档次。与此同时,真空镀铝膜制品满足了环保要求,因此真空镀铝膜制品在各种高品质包装印刷品中得到广泛应用。

真空镀铝膜制品在生产过程中,受温度、膜材特性(如厚度、伸缩、张力纹等)因素影响,生产出来的膜材料相对于标准品有较大差异。

    所述真空镀铝膜通常包括基材层和镀铝层。在长期实践中,申请人发现采用常规光面铝导辊生产真空镀铝膜时,镀铝层表面会出现暗纹线和斜镀空白线条。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术薄膜真空镀铝膜的镀铝层表面会出现暗纹线和斜镀空白线条的缺点,提供一种双胶辊展平机构,这种双胶辊展平机构能够有效的消除真空镀铝膜镀铝层表面的暗纹线和斜镀空白线条。采用的技术方案如下:

一种双胶辊展平机构,其特征在于:包括与真空镀铝膜基材层表面接触的环形橡胶展平辊和与真空镀铝膜镀铝层表面接触的螺旋橡胶展平辊,所述环形橡胶展平辊与螺旋橡胶展平辊滚动接触。工作的时候,薄膜从环形橡胶展平辊和螺旋橡胶展平辊之间穿过,所述螺旋橡胶展平辊与真空镀铝膜镀铝层表面接触,所述环形橡胶展平辊与真空镀铝膜基材层表面接触。

较优的方案,所述螺旋橡胶展平辊的圆周面上开有左旋螺纹和右旋螺纹,所述左旋螺纹和右旋螺纹自圆周面中央向两侧对称分布。

较优的方案,所述环形橡胶展平辊的圆周面上开有多个环形槽,各环形槽均与环形橡胶展平辊的中轴线垂直,并且各环形槽相互平行。

当真空镀铝膜正面的镀铝层表面接触螺旋橡胶展平辊的圆周面时,真空镀铝膜背面的基材层表面则接触环形橡胶展平辊的圆周面。所述镀铝层表面与螺旋橡胶展平辊表面上向两侧倾斜的螺纹产生摩擦,倾斜的螺纹将镀铝层扩向两端,使镀铝层得以平展。   

本实用新型对照现有技术的有益效果是,由于采用环形橡胶展平辊与螺旋橡胶展平辊配合,因此能够有效的消除真空镀铝膜镀铝层表面的暗纹线和斜镀空白线条,并且其结构简单、安装方便。

附图说明

图1是本实用新型优选实施例的结构示意图;

图2是本实用新型优选实施例的使用状态示意图。

具体实施方式

下面结合附图和本实用新型的优选实施方式做进一步的说明。

如图1所示,本优选实施例中的双胶辊展平机构,包括与真空镀铝膜3基材层301表面接触的环形橡胶展平辊2和与真空镀铝膜3镀铝层302表面接触的螺旋橡胶展平辊1,所述环形橡胶展平辊2与螺旋橡胶展平辊1滚动接触。工作的时候,薄膜从环形橡胶展平辊2和螺旋橡胶展平辊1之间穿过,所述螺旋橡胶展平辊1与真空镀铝膜3镀铝层302表面接触,所述环形橡胶展平辊2与真空镀铝膜3基材层301表面接触。

所述螺旋橡胶展平辊1的圆周面上开有左旋螺纹101和右旋螺纹102,所述左旋螺纹101和右旋螺纹102自圆周面中央向两侧对称分布。

所述环形橡胶展平辊2的圆周面上开有多个环形槽201,各环形槽201均与环形橡胶展平辊2的中轴线垂直,并且各环形槽201相互平行。

如图2所示,当真空镀铝膜3正面的镀铝层302表面接触螺旋橡胶展平辊1的圆周面时,真空镀铝膜3背面的基材层301表面则接触环形橡胶展平辊2的圆周面。所述镀铝层302表面与螺旋橡胶展平辊1表面上向两侧倾斜的左旋螺纹101和右旋螺纹102产生摩擦,倾斜的左旋螺纹101和右旋螺纹102将镀铝层302从中央扩向两端,使镀铝层302得以平展。

此外,需要说明的是,本说明书中所描述的具体实施例,其各部分名称等可以不同,凡依本实用新型专利构思所述的构造、特征及原理所做的等效或简单变化,均包括于本实用新型专利的保护范围内。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离本实用新型的结构或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本实用新型的保护范围。

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