[实用新型]一种能够防止浸没式膜过滤系统二次污染的膜池有效
申请号: | 201320148509.1 | 申请日: | 2013-03-28 |
公开(公告)号: | CN203212361U | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 柯永文;戴海平;石飞;王龙兴 | 申请(专利权)人: | 天津膜天膜科技股份有限公司 |
主分类号: | C02F1/44 | 分类号: | C02F1/44 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 肖莉丽 |
地址: | 300457 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 能够 防止 浸没 过滤 系统 二次污染 | ||
技术领域
本实用新型涉及水处理技术领域,特别是涉及一种能够防止浸没式膜过滤系统二次污染的膜池。
背景技术
近年来,高品质再生水需要越来越多,处理工艺由传统沙虑改为膜过滤,对于沙虑工艺的升级改造浸没式膜过滤系统有着不可替代的优点。首先在改造过程中可以将原有的沙滤池进行改造变成膜池,节约了投资成本,减少占地。再次由于浸没式膜过滤系统是负压运行,能耗相对其他的膜过滤方法低很多。所以大量的污水处理厂在进行改造的时候会优先选择浸没式膜过滤系统这种处理方法。
此外,由于浸没式膜过滤系统的优点,在新建的再生处理厂也越来越多采用浸没式膜过滤系统。无论是改造后的膜池还是新建的膜池,在使用中发现,在进行气水洗的过程中,随着液位的不断上升,部分污染物会随着气体的抖动漂浮在水体的上表面,人工清理起来很不方便。部分污染物会随着液位的降低而排放出去,而部分污染物附着在膜池的上端,或者在进行气水洗的过程中会被冲下来,悬挂在膜池的池壁上或随着液位的降低再度附着在膜池壁、膜壳及膜表面上,造成二次污染,从而造成膜清洗不彻底,增加清洗频率,导致膜系统运行成本增加。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术中存在的技术缺陷,而提供一种能够能够防止浸没式膜过滤系统二次污染的膜池。
为实现本实用新型的目的所采用的技术方案是:
一种能够防止浸没式膜过滤系统二次污染的膜池,包括膜池本体,所述膜池本体上安装有溢流单元,所述溢流单元包括溢流装置、出水槽和出水管,所述溢流装置的出水部分与所述出水槽连接,所述出水槽与所述出水管连接。
所述溢流装置为三角堰、孔眼或溢流堰。
所述溢流装置的实际过水高度低于膜气水洗时的最高液位,所述溢流装置的过水的最低位置高于膜池的正常水位。
出水槽设置在膜池本体四周或膜池某边。
所述出水槽设置在所述膜池本体内壁上并向膜池内凸出10-30cm,所述溢流装置的最低位置距所述出水槽底面10-20cm。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
本实用新型的膜池中增加了溢流单元,通过溢流装置使膜池内的污染物通过出水槽及出水管排出膜池,保持膜池的卫生,防止产生二次污染,减小膜的运行负担,为浸没式膜过滤系统长期运行提供了良好的条件。同时,可以降低清洗频率,降低膜系统运行的成本。
附图说明
图1所示为本实用新型一种能够防止浸没式膜过滤系统二次污染的膜池的示意图;
图2所示为A部放大图;
图3所示为漂浮的污染物从膜池内排出的示意图。
图中:1.膜池本体,2.膜组件,3.溢流装置,4.出水槽,5.出水管。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。
本实用新型一种能够防止浸没式膜过滤系统二次污染的膜池的示意图如图1-图3所示,包括膜池本体1,所述膜池本体1上安装有溢流单元,所述溢流单元包括溢流装置3、出水槽4和出水管5,所述溢流装置3的出水部分与所述出水槽4连接,所述出水槽4与所述出水管5连接。
所述溢流装置3为三角堰、孔眼或溢流堰。
所述溢流装置3的实际过水高度低于膜气水洗时的最高液位,所述溢流装置的过水的最低位置高于膜池的正常水位。
所述出水槽4设置在膜池本体1的四周或膜池某边。所述出水槽4设置在所述膜池本体内壁向膜池内凸出10-30cm,溢流装置3的最低位置距出水槽4底面10-20cm。
将膜组件2放入膜池中,再连接其他部件组成浸没式膜过滤系统。通过带有压力的供水管道和供水阀门对膜池进行供水。根据膜池设定液位控制供水阀门开启,以保证膜池恒液位。连续产水一段时间后,膜表面积聚很多污染物。启动鼓风机连接曝气管道进行对膜气擦洗,同时通过反洗管道、反洗进水阀、产水/反洗泵、反洗调节阀、反洗流量计、反洗阀对膜池进行反清洗。浸没式膜过滤系统在进行气水洗的过程中,随着液位的不断上升,部分污染物会随着气体的抖动漂浮在水体的上表面,随着液面的升高,污染物通过溢流装置进入出水槽,在通过出水槽连接的出水管排出,防止污染物对膜池的二次污染。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出的是,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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