[实用新型]一种用于检具的旋转机构有效

专利信息
申请号: 201320116761.4 申请日: 2013-03-14
公开(公告)号: CN203147201U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 何轸炎 申请(专利权)人: 福建省尚邑模具工业有限公司
主分类号: F16M11/06 分类号: F16M11/06;F16M11/16
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 李秀梅
地址: 362000 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 旋转 机构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种检具,特别是一种用于检具的旋转机构。

背景技术

目前,现有技术中,用于检具的旋转机构一般包括有旋转底座及旋转臂,旋转底座上形成有一可容置旋转臂的凹槽,旋转臂的一端通过旋转销可转动固定于旋转底座上,并且旋转臂可通过定位螺栓锁固于旋转底座上,通过旋转销来实现旋转臂的旋转。但此种结构的旋转机构很难保证装配的精度,或由于长时间使用后磨损也会导致装置精度下降,无法保证检测块始终置于准确的检测位置,因此,检测精度也较低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是克服现有技术的缺点,提供一种结构简单,操作方便,可提高检测精度的用于检具的旋转机构。

本实用新型采用如下技术方案:

一种用于检具的旋转机构,包括有旋转底座及旋转臂,所述旋转底座上形成有一可容置旋转臂的凹槽,旋转臂的一端通过旋转销可转动固定于旋转底座上,并且旋转臂可通过定位螺栓锁固于旋转底座上,所述旋转底座上还穿设有用于调整旋转臂倾斜角度的调整螺栓。

优选地,所述旋转臂的中间部形成宽度小于两端部的让位台阶,中间部两侧与旋转底座之间的间隙大于两端部与旋转底座之间的间隙。

优选地,所述旋转底座上开设有可穿设所述调整螺栓的通孔,通孔内壁形成有螺纹,所述调整螺栓可螺纹连接于该通孔并可从该通孔中穿出。

优选地,所述旋转臂端部形成有用于安装检测块的安装座。

优选地,所述用于检具的旋转机构还包括有设置于旋转底座的凹槽口侧用于限制旋转臂旋转范围的限位挡座。

由上述对本实用新型的描述可知,与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:结构简单,操作方便,可通过旋进或旋出调整螺栓来调节旋转臂的倾斜度,以保证检测块可置于准确的检测位置,可提高检测精度,同时,旋转臂的中间部形成宽度小于两端部的让位台阶,形成避空结构,可使旋转臂转动更灵活。

附图说明

图1是本实用新型具体实施方式的立体图;

图2是本实用新型具体实施方式的旋转底座的正视图;

图3是本实用新型具体实施方式的旋转底座的侧视图;

图4是本实用新型具体实施方式的旋转底座的俯视图;

图5是本实用新型具体实施方式的旋转臂的侧视图;

图6是本实用新型具体实施方式的旋转臂的正视图;

图7是图6中的A处放大图。

图中:1.旋转底座,10.凹槽,11.调节通孔,12.第二定位孔,2.旋转臂,20.让位台阶,21.安装座,210.安装孔,211.卡固台阶,22.第一定位孔,3.旋转销,4.旋动把手,5.限位挡座。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。

参照图1至图7,本实用新型的一种用于检具的旋转机构,包括有旋转底座1及旋转臂2,所述旋转底座1上形成有一可容置旋转臂2的凹槽10,旋转臂2的一端通过旋转销3可转动固定于旋转底座1上,并且旋转臂2可通过定位螺栓锁固于旋转底座1上,所述定位螺栓上连接有一旋动把手4,所述旋转底座1上还穿设有用于调整旋转臂2倾斜角度的调整螺栓。旋转底座1的凹槽10口侧还设置有用于限制旋转臂2旋转范围的限位挡座5。

所述旋转底座1上开设有可穿设所述调整螺栓的调节通孔11,该调节通孔11内壁形成有螺纹,所述调整螺栓可螺纹连接于该调节通孔11并可从该调节通孔11中穿出。由于旋转臂2处于工作位时,会抵靠于调整螺栓上,因此可通过旋进或旋出调整螺栓来调节旋转臂2的倾斜度,以保证检测块可置于准确的检测位置,可提高检测精度。

旋转臂2的中间部形成宽度小于两端部的让位台阶20,中间部两侧与旋转底座1之间的间隙大于两端部与旋转底座1之间的间隙,形成避空结构,可使旋转臂2转动更灵活。所述旋转臂2端部形成有用于安装检测块的安装座21,包括有形成于旋转臂2端部的多个安装孔210及形成于安装孔210下方的卡固台阶211。

旋转臂2上开设有第一定位孔22,旋转底座1上开设有与所述第一定位孔22相对应的第二定位孔12,第一定位孔22和第二定位孔12内壁均形成有螺纹,所述定位螺栓穿过旋转臂2上的第一定位孔22可将旋转臂2锁固于旋转底座1上的第二定位孔12内。通过旋松定位螺栓,可转动旋转臂2,当待检测样品放置好后,将旋转臂2复位,再旋紧定位螺栓将旋转臂2锁固于旋转底座上。

上述仅为本实用新型的一个具体实施方式,但本实用新型的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动,均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。

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