[实用新型]一种用于制备高强度瓷釉的陶瓷烧结炉

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种烧结炉，尤其涉及一种制备高强度瓷釉的陶瓷烧结炉。

背景技术

烧结是搪瓷工艺必不可少的一个环节。通常烧结炉是一个箱柜式的结构，设有多个层，每层的温度都可独立控制。如申请号为201120307869.2的中国实用新型专利，一种陶瓷烧结炉，它包括排胶区、烧结区和冷却区，所述排胶区和烧结区从下到上设有多个控温区，所述冷却区从上到下设有多个控温区，所述排胶区和烧结区的侧壁设有多排加热装置，所述冷却区侧壁设有循环冷水管。该陶瓷烧结炉，由由于排胶区和烧结区竖向设置，越往上面气温越高，所加工时，能够从下到上温度渐进升高，冷却时，从上到下，温度渐进降低，不会开裂，可提高生产效率和合格率，降低加工成本。但是该烧结炉不能连续生产，因此每一批的量小，批次之间的差异较大，不能保证产品的质量稳定性。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种制备高强度瓷釉的陶瓷烧结炉。它专用于制备高强度的瓷釉，并且还具有连续生产的能力，保证了大批量的生产，从而保证了质量的稳定性。

本实用新型的上述目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种制备高强度瓷釉的陶瓷烧结炉，它包括从输入侧到输出侧依次配设的预热部、煅烧部和冷却部，预热部和煅烧部的上部设有用多个隔壁在输送方向上分隔形成的单独控制的多个区域，所述预热部中的隔壁与输送方向形成介于120～150°的钝角，所述煅烧部的隔壁与输送方向垂直，所述煅烧部上部与预热部上部的尾端之间还设置有能够逆着输送方向通风的管道。

作为上述技术方案的优选，所述预热部和煅烧部的下部都设置有与输送方向垂直的隔壁。

作为上述技术方案的优选，输送路径与所述预热部上部、煅烧部上部、冷却部上部、预热部下部、煅烧部下部、冷却部下部之间都有空隙，却单独地与煅烧部上部之间的间距最小。

作为上述技术方案的优选，所述冷却部包括喷嘴，所述喷嘴喷出的冷空气可自由调节，远离输出端的喷嘴的冷却空气的喷出量逐渐地少于靠近输出端的喷嘴的冷却空气的喷出量。

作为上述技术方案的优选，所述冷却部的上部和下部均设置有隔壁，所述隔壁将冷却部均匀地分隔为多个温度可控的独立区域，所述温度可控是通过喷嘴降温实现的。

作为上述技术方案的优选，所述喷嘴的喷出方向设置为，介于所述隔壁和输送路径之间。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型专用于制备高强度的瓷釉，并且还具有连续生产的能力，保证了大批量的生产，从而保证了质量的稳定性。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图中，1-预热部，2-煅烧部，3-冷却部，4-隔壁，5-管道，6-喷嘴，10-输送路径。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型进行进一步的说明。

本具体实施方式仅仅是对本实用新型的解释，并不是对本实用新型的限制。本领域技术人员在阅读了本申请的说明书之后，所作出的任何改变，只要在本申请权利要求的保护范围之内，都将受到法律的保护。

实施例一

如图1所示，一种用于制备高强度瓷釉的陶瓷烧结炉，包括从输入侧到输出侧依次配设的预热部1、煅烧部2和冷却部3，预热部1和煅烧部2的上部设有用多个隔壁4在输送方向上分隔形成的单独控制的多个区域，所述预热部1中的隔壁4与输送方向形成介于120°的钝角，所述煅烧部2的隔壁4与输送方向垂直，所述煅烧部2上部与预热部1上部的尾端之间还设置有能够逆着输送方向通风的管道5。所述预热部1和煅烧部2的下部都设置有与输送路径10垂直的隔壁4。输送路径10与所述预热部1上部、煅烧部2上部、冷却部3上部、预热部1下部、煅烧部2下部、冷却部3下部之间都有空隙，却单独地与煅烧部2上部之间的间距最小。所述冷却部3包括喷嘴6，所述喷嘴6喷出的冷空气可自由调节，远离输出端的喷嘴6的冷却空气的喷出量逐渐地少于靠近输出端的喷嘴6的冷却空气的喷出量。所述冷却部3的上部和下部均设置有隔壁4，所述隔壁4将冷却部均匀地分隔为多个温度可控的独立区域，所述温度可控是通过喷嘴6降温实现的。所述喷嘴6的喷出方向设置为，介于所述隔壁4和输送路径10之间。

实施例二