[实用新型]系统和触敏设备

权利要求书

1.一种系统，其特征在于，包括：

支持触摸传感器结构的支持器，该触摸传感器结构包括：

基底；

部署在基底表面上的、具有关联的第一烧蚀注量值的第一层；以及

部署在与基底相对的第一层的表面上的、具有关联的第二烧蚀注量值的第二层，所述第二烧蚀注量值小于所述第一烧蚀注量值；

发射出注量值大于或等于第二烧蚀注量值且小于第一烧蚀注量值的能量来烧蚀第二层的激光器；

移除在烧蚀第二层之后暴露的第一层的至少一部分的移除器；以及

在移除了第一层的所述部分之后移除第二层的至少一部分的移除器。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，移除在烧蚀第二层之后暴露的第一层的至少一部分的移除器包括：蚀刻第一层的所述部分的蚀刻器。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，在移除了第一层的所述部分之后移除第二层的至少一部分的移除器包括：烧蚀第二层的所述部分的激光器。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，在移除了第一层的所述部分之后移除第二层的至少一部分的移除器包括：蚀刻第二层的所述部分的蚀刻器。

5.一种系统，其特征在于，包括：

将具有关联的第一烧蚀注量值的第一层淀积在基底上的淀积器；

将具有关联的第二烧蚀注量值的第二层淀积在第一层上的淀积器，所述第二烧蚀注量值小于所述第一烧蚀注量值；

发射出注量值大于或等于第二烧蚀注量值且小于第一烧蚀注量值的能量来图案化所述第二层的激光器；

移除在图案化第二层之后暴露的第一层的至少一部分的移除器；以及

在移除了第一层的所述部分之后移除第二层的至少一部分的移除器。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，移除第二层的所述部分的移除器包括：使用被配置成蚀刻第二层而不蚀刻第一层和基底的蚀刻剂来蚀刻第二层的所述部分的蚀刻器。

7.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，移除第二层的所述部分的移除器包括：发射出注量值大于或等于第二烧蚀注量值且小于第一烧蚀注量值的能量来烧蚀第二层的所述部分的激光器。

8.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，第一层是氧化铟锡层，第二层是Ti层，并且其中所发射的图案化第二层的能量的注量值介于20-300mJ/cm²之间。

9.一种系统，其特征在于，包括：

支持触摸传感器结构的支持器，该触摸传感器结构包括：

基底；

部署在基底表面上的、具有关联的第一烧蚀注量值的第一层；以及

部署在与基底相对的第一层的表面上的、具有关联的第二烧蚀注量值的第二层，所述第二烧蚀注量值小于所述第一烧蚀注量值；

发射出注量值大于或等于第二烧蚀注量值且小于第一烧蚀注量值的能量来烧蚀第二层的激光器；以及

移除在烧蚀第二层之后暴露的第一层的至少一部分的移除器。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，还包括：在移除第一层的所述部分之后移除第二层的至少一部分的移除器。

11.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述基底还包括：

部署在所述基底的与第一层相对的表面上的第三层，所述第三层具有关联的第三烧蚀注量值；以及

部署在第三层的与基底相对的表面上的第四层，所述第四层具有关联的第四烧蚀注量值，并且所述第四烧蚀注量值小于第三烧蚀注量值。

12.根据权利要求11所述的系统，其特征在于，还包括：

发射出注量值大于或等于第四烧蚀注量值且小于第三烧蚀注量值的能量来烧蚀第四层的激光器；以及

移除在烧蚀第四层之后暴露的第三层的至少一部分的移除器。

13.一种系统，其特征在于，包括：

将具有关联的第一烧蚀注量值的第一层淀积在基底表面上的淀积器；

将具有关联的第二烧蚀注量值的第二层淀积在第一层的与基底相对的表面上的淀积器，所述第二烧蚀注量值小于所述第一烧蚀注量值；

发射出注量值大于或等于第二烧蚀注量值且小于第一烧蚀注量值的能量来图案化第二层的激光器；以及

移除在图案化第二层之后暴露的第一层的至少一部分的移除器。