[实用新型]一种发光装置及投影系统有效
申请号: | 201320095838.4 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN203217229U | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 胡飞;侯海雄 | 申请(专利权)人: | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G02B27/10;G02B27/09;F21V13/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发光 装置 投影 系统 | ||
1.一种发光装置,其特征在于,包括:
第一激光阵列、第二激光阵列和第一合光装置,所述第一激光阵列发出的第一光束和第二激光阵列发出的第二光束分别被第一合光装置透射和反射而合为一束并构成第一合光,第一光束中激光光斑的长轴方向与第二光束中激光光斑的长轴方向平行,第一光束与第二光束入射到所述第一合光装置表面的激光光斑沿该第一光束的激光光斑的短轴方向交替分布;
第三激光阵列和第二合光装置,所述第三激光阵列用于发出第三光束,该第三光束与所述第一合光分别被第二合光装置透射和反射而共同形成出射光,或第三光束与所述第一合光分别被第二合光装置反射和透射而共同形成出射光;
其中,第三光束中激光光斑的长轴方向与第一合光中激光光斑的长轴方向相垂直,第三光束与第一合光入射到所述第二合光装置表面的激光光斑沿该第一合光的激光光斑的长轴方向交替分布。
2.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述发光装置还包括第四激光阵列与第三合光装置,所述第四激光阵列用于发出第四光束,该第四光束与所述第一合光分别被第三合光装置透射和反射而共同形成第二合光,或第四光束与所述第一合光分别被第三合光装置反射和透射而共同形成第二合光;
其中,所述第四光束中激光光斑的长轴方向与第一合光中激光光斑的长轴方向相平行,第四光束与第一合光入射到所述第三合光装置表面的光斑沿该第一合光的激光光斑的短轴方向交替分布;
所述第二合光与第三光束分别被第二合光装置透射和反射而共同形成出射光,或者所述第二合光与第三光束分别被第二合光装置反射和透射而共同形成出射光。
3.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述第一光束、第二光束为第一偏振态,第三光束为垂直于第一偏振态的第二偏振态, 所述第二合光装置具有透射第一偏振态的光而反射第二偏振态的光或者反射第一偏振态的光而透射第二偏振态的光的光学性质。
4.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述第一光束的波长为第一波长,所述第二光束的波长为第二波长,所述第三光束的波长为与第一波长、第二波长都不同的第三波长,所述第二合光装置具有反射第一波长和第二波长的光而透射第三波长的光或者透射第一波长和第二波长的光而反射第三波长的光的光学性质。
5.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述第二合光装置包括多个透射区域和反射区域,该透射区域和反射区域沿所述第一光束入射在所述第二合光装置表面形成的光斑的长轴方向交替分布;
所述透射区域覆盖所述第一合光在所述第二合光装置表面的入射区域而所述反射区域覆盖所述第三光束在所述第二合光装置表面的入射区域,或者所述透射区域覆盖所述第三光束在所述第二合光装置表面的入射区域而所述反射区域覆盖所述第一合光在所述第二合光装置表面的入射区域。
6.根据权利要求5所述的发光装置,其特征在于,所述第二合光装置为透明材质,所述第二合光装置的反射区域设置有反射镜或者反射膜,所述相邻反射镜或者反射膜之间以及反射镜或者反射膜与透明材质边缘之间的透明区域为透射区域。
7.根据权利要求5所述的发光装置,其特征在于,所述第二合光装置的反射区域设置有反射镜或者反射膜,所述第二合光装置的透射区域为透光孔。
8.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述第一合光装置包括多个透射区域和反射区域,该透射区域和反射区域沿所述第一光束在所述第一合光装置表面形成的光斑的短轴方向交替分布;
所述第一光束从第一合光装置的第一侧透射所述透射区域而所述第二光束从第一合光装置的第二侧入射至所述反射区域被反射。
9.一种投影系统,其特征在于,包括如权利要求1至8所述的任一项发光装置。
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