[实用新型]掩膜版盒有效
申请号: | 201320094045.0 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN203133471U | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 邢滨;岳力挽 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版盒 | ||
1.一种掩膜版盒,包括一个底座、盖于所述底座上的壳罩以及用以将所述底座与所述壳罩固定在一起的限制块和旋转臂,所述壳罩包括垂直于所述底座的侧壁,所述旋转臂的一端与所述侧壁旋转连接,另一端与所述限制块固定连接,所述旋转臂的旋转轴心垂直于所述底座,所述侧壁包括互相平行的内侧壁和外侧壁,所述内侧壁与所述外侧壁均设有供所述限制块旋转穿过的开口,其特征在于:所述侧壁还包括末端连接壁,所述末端连接壁连接所述内侧壁和所述外侧壁的开口末端。
2.如权利要求1所述的掩膜版盒,其特征在于:所述末端连接壁的数量为两个,分别位于所述限制块的两侧,分别连接位于所述限制块同侧的内侧壁的开口末端与外侧壁的开口末端。
3.如权利要求2所述的掩膜版盒,其特征在于:位于所述限制块的与所述旋转臂同侧的末端连接壁沿竖直方向的高度位置与所述限制块的旋转运动平面错开。
4.如权利要求1所述的掩膜版盒,其特征在于:所述侧壁还包括垂直连接壁,所述垂直连接壁垂直于所述内侧壁与外侧壁设置。
5.如权利要求4所述的掩膜版盒,其特征在于:所述垂直连接壁与位于所述限制块同侧的所述末端连接壁等高。
6.如权利要求4所述的掩膜版盒,其特征在于:所述末端连接壁的一端与所述垂直连接壁的一端重合。
7.如权利要求6所述的掩膜版盒,其特征在于:所述末端连接壁的位于所述外侧壁的一端与所述垂直连接壁的位于所述外侧壁的一端重合。
8.如权利要求1所述的掩膜版盒,其特征在于:所述内侧壁的开口小于所述外侧壁的开口。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
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