[实用新型]光学焦距温度补偿装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及移动的光学成像系统，提供了一种光学焦距温度补偿装置。

背景技术

在计算机制版，（如照排机、CTP、CTCP或ID数字印刷机），当光学成像系统在信息载体上扫描成像时，光学成像系统与信息载体表面之间的距离，要求要始终保持一致，而且非常精确，以获得良好的成像质量。这个光学成像系统与信息载体表面之间的距离，称为像距，人们也俗称为光学成像系统的调焦焦距。每个光学成像系统都有一个确定的像距，该像距下成像质量最佳，在这个确定的像距前后，一定的范围内，成像质量有所下降，但还能为人们认可，这个确定的像距前后，像质还可以的范围称为景深。一般来说，光学成像系统的实际像距的变化在景深范围以内，都可以得到满意的成像质量。

对于照排机、CTP或ID数字印刷机，为了保证像距的精确一致性，在光机零件的加工上，部件的装配上，生产厂家都做了最大的努力。如信息载体表面绕旋转轴线的跳动量、光学成像系统扫描运动的直线度，光学成像系统扫描全行程内对信息载体表面的变动量，等多项关键的技术指标，都做到了景深范围的二分之一或三分之一，甚至更小。因此光机系统已经满足了标准环境条件下，得到满意的成像质量的要求。

但在设备运转过程中，环境温度可能变化，设备内部电源、电机、光源、机械摩擦，都会产生大量的热量，使设备的零部件产生温升变形。不同的材料，温升变形不同，会造成光学成像系统与信息载体表面之间的距离变化，甚至超出景深范围，造成成像质量的下降。

美国专利US5，765，272介绍了一种用于激光成像设备的自动聚焦系统。这个系统具有激光和用于形成光束的光学器件，所述光束被聚焦到成像平面上，从成像平面上反射的激光特性，被一光电二极管接收，这一反射的激光特性信号包含了激光束在成像平面上聚焦状态的信息（聚焦点的大小），通过这一信息与理论最佳值的比较，得出激光和成像的光学器件与成像平面之间的聚焦状态关系，并可通过改变激光和成像的光学器件的位置，来改变激光束在成像平面上的焦点。

这种类型的自动聚焦系统其反馈来自成像平面，成像平面尤其是印版表面，不是严格意义上的平面，表面有微观的凹凸面，会造成非正常反射。而切实际印版表面会有灰尘颗粒存在，也会会造成非正常反射。非正常反射会造成反馈失真。再者该自动聚焦系统述说，主要是真对于设备运转过程中的振动对聚焦的影响。但设备振动频率较高，自动聚焦系统的机械位置调整的控制时间相对较长，而切是差后补偿，因此容易出现成像缺陷。同时该类型的自动聚焦系统设计难度大，硬件结构复杂成本高。

海德堡的专利01119950.4，具有可变的印刷点尺寸的激光成像设备和方法。其立足点还是要真对于，设备运转过程中的振动对聚焦焦点的影响出发，利用具有高斯能量分布的激光束，在光学系统聚焦时，形成的腰束现象，用激光测距仪测定激光源到成像面的实际距离，用计算机控制激光能量的大小和曝光时间的长短来补偿聚焦焦点的变化。

这种类型的自动聚焦焦点补偿系统，只能用于有高斯能量分布的激光束，不能用于不具有高斯能量分布的汇聚光束，（如光纤耦合输出的光束）。激光测距系统本身也是一个设计难度大，硬件结构复杂成本较高的设备。

发明内容

本实用新型主要是针对光学成像设备运转过程中，补偿温升变化对成像质量的影响，从而提供了一种光学焦距温度补偿装置。

本实用新型为了实现上述目的采用以下技术方案：

一种光学焦距温度补偿装置，其特征在于：包括均设置有温度传感器的光学成像镜头组、密排光纤矩阵、多路可控单色相干光源、光源控制器、确定光学成像系统相对信息载体表面之间像距的计量器具、自控移动平台、提供附着信息载体的印版曝光载体。 

上述方案中，所述自控移动平台设置有平台控制电机。

上述方案中，还包括提供承载光学成像系统与印版曝光载体的底座，所述自控移动平台设置在底座上，所述光学成像镜头组、密排光纤矩阵设置在自控移动平台上。

上述方案中，所述平台控制电机设置有步进驱动器。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型主要是针对光学成像设备运转过程中，补偿温升变化对成像质量的影响。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

图中1为印版曝光载体、2为光学成像镜头组、3为密排光纤矩阵、4为步进驱动器、5为多路可控单色相干光源、6为自控移动平台、7为平台控制电机、8为温度传感器、9为底座、10为微动开关、11为光电开关。

具体实施方式